Все продукты
Контактное лицо : Eric
Номер телефона : +86 18038000078
whatsapp : +8618038000078

Установка очистки сверхчистой воды 110 м3/ч для очистки кремниевых пластин с модулем EDI

  • 110m3/H Ultrapure Water Treatment Plant For Silicon Wafer Cleaning With Edi Module
  • 110m3/H Ultrapure Water Treatment Plant For Silicon Wafer Cleaning With Edi Module
Место происхождения Гуандун, Китай
Фирменное наименование HongJie
Сертификация ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Номер модели HJ-UPWSe110T
Количество мин заказа >= 1 серия
Цена US$219200~US$224500
Упаковывая детали Экспорт стандартный деревянный корпус
Время доставки 1-7 рабочих дней (зависит от запасов сырья)
Условия оплаты L/C, D/P, T/T, Western Union
Поставка способности >300 комплектов/месяц

Свяжитесь со мной для бесплатных образцов и купонов.

whatsapp:0086 18588475571

WeChat: 0086 18588475571

Skype: sales10@aixton.com

Если у вас есть какие-либо проблемы, мы предоставляем круглосуточную онлайн-помощь.

x
Подробная информация о продукте
Качество воды Сопротивление ≥≥18,18 MΩ·cm @ 25°C Степень потока 110 м³/ч (Настраиваемый)
Основной процесс Двухступенчатый обратный осмос + ЭДИ + Финишная смола Ключевые компоненты Модули обратного осмоса, установки электродиализа
Электроснабжение 380 В Послепродажное обслуживание 2-летняя гарантия
Режим работы Полностью автоматический ПОК < 0,5 ppb
Частицы ≤1 частица/мл (>0,05 мкм) Растворенный кислород ≤2 мкг/л
Выделить

Очистка сверхчистой воды 110 м3/ч

,

Очистка сверхчистой воды с модулем EDI

,

Установка очистки воды 110 м3/ч
Оставьте сообщение
Характер продукции

Улучшить эффективность фильтрации 110м3/ч сверхчистая очистная установка для очистки кремниевых пластин с модулем edi

 

I. Обзор
Ультрачистая вода является ключевым компонентом в очистке кремниевых пластин для достижения эффективного производства фотоэлектрических элементов с низким уровнем дефектов.Его применение напрямую определяет чистоту поверхности кремниевой пластины, продолжительность жизни малочисленных носителей и, в конечном счете, эффективность клеток.
Индустриальное правило: на каждое 10-кратное увеличение чистоты сверхчистой воды, используемой для очистки кремниевых пластин, эффективность ячейки увеличивается до 0.15% может быть достигнуто ¦Конкурентоспособность фотоэлектрической энергетики начинается с первой капли сверхчистой воды.??

 

II. Процесс
Загрузка вафеля → Очистка SC1 → Очистка сверхчистой водой → Очистка с помощью кислоты HF → Очистка сверхчистой водой → Очистка SC2 → Окончательная промывка сверхчистой водой → Сушка

 

III. Параметры

Параметр Стандартная стоимость
Сопротивляемость ≥ 18,18 MΩ·cm @ 25°C
ПОК < 0,5 ppb
Na+/K+ <0,1 пт
Fe3+/Al3+ < 0,05 ppt
Cl− < 0,1 ppb
Частицы > 0,05 мкм ≤ 1 частица/мл
Растворенный кислород ≤ 2 ppb

 

IV. Вот руководство для вас, чтобы получить правильную цитату
Укажите нам сырую воду/источник воды ((вода из крана, скважина или морская вода и т.д.)
Предоставьте отчет об анализе воды ((TDS, проводимость или сопротивляемость и т.д.)
Необходимая производственная мощность ((5m3/h, 50m3/h или 500m3/h и т.д.)
Для чего используется чистая вода (промышленная, пищевая, сельскохозяйственная и т.д.)

 

Бирки:

Оборудование для сверхчистой воды

Система очистки чистой воды

Система очищенной воды