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Équipement industriel à eau ultra pure pour la lithographie

  • Custom Made 20T/H Industrial Ultra Pure Water Equipment For Lithography
  • Custom Made 20T/H Industrial Ultra Pure Water Equipment For Lithography
Lieu d'origine Shenzhen, en Chine
Nom de marque HongJie
Certification ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Numéro de modèle HJ-UPWSe50T
Quantité de commande min >=1 ensembles
Prix US$44000~US$44500
Détails d'emballage Casse en bois standard pour l'exportation
Délai de livraison 1-7 jours ouvrables (selon les stocks de matières premières)
Conditions de paiement L/C, D/P, T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement > 300 ensembles par mois

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Détails sur le produit
Débit 50 m3/h (peut être personnalisé) Qualité de l'eau Résistance ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C)
Processus de base Osmose inverse + EDI + Résine de polissage Composantes clés Modules à membrane RO, unités EDI
L'approvisionnement en électricité Pour les appareils à commande numérique Service après-vente garantie de deux ans
Mode de fonctionnement Entièrement automatique Caractéristiques du produit Qualité de l'eau stable,faible coût d'exploitation,performance fiable
CdT Le produit doit être soumis à un contrôle d'approvisionnement en liquide. Particules Particules > 0,05 μm < 1 par ml
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Équipement d'eau ultra pure pour la lithographie

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Équipement pour l'eau ultra pure de 20 T/H

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Machine à eau ultra pure sur mesure
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Description de produit

I.Vie d'ensemble
L'eau ultra-pure joue un rôle indispensable et d'une importance cruciale dans le processus de lithographie.et l'eau ultra-pure de qualité lithographique sert de garantie fondamentale pour l'évolution continue de la loi de MooreL'eau ultra-pure (UPW), avec sa teneur extrêmement faible en impuretés, est une eau très propre.est le support idéal pour répondre à ces exigences strictesSa pureté ultime est la garantie fondamentale pour assurer des motifs de lithographie précis, sans défaut et des taux de rendement élevés.

 

II.Procédure
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank

 

III.Paramètres

Paramètre Valeur requise
Résistance ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C)
Le carbone organique total (COT) Le produit doit être soumis à un contrôle d'approvisionnement en liquide.
Particules Particules > 0,05 μm < 1 par ml
Oxygène dissous (DO) < 5 ppb
Contenu bactérien < 0,01 UFC/mL
Dioxyde de silicium (SiO2) < 1 ppb
Ions boroniques/sodiques < 10 ppt

 

IV.Sénarios d'application
Nettoyage des plaquettes
Le lavage après le développement
Dilution et préparation de produits photorésistants/chimiques
Nettoyage des équipements et des composants

 

V. Voici une ligne directrice pour vous d'obtenir un devis approprié
Indiquez l'eau brute/la source d'eau ((eau du robinet, eau de puits ou eau de mer, etc.)
Fournir un rapport d'analyse de l'eau ((TDS, conductivité ou résistivité, etc.)
Capacité de production requise ((5m3/h, 50m3/h ou 500m3/h, etc.)
Quelle est l'utilisation de l'eau pure (industrielle, alimentaire et des boissons, ou l'agriculture, etc.)

 

Étiquettes:

Équipement pour l'eau ultrapure

Système de traitement de l'eau pure

Système d'eau purifiée