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| Nom De La Marque: | HongJie |
| Numéro De Modèle: | HJ-UPWSe50T |
| MOQ: | >=1 ensembles |
| Le Prix: | US$44000~US$44500 |
| Conditions De Paiement: | L/C, D/P, T/T, Western Union |
| Capacité D'offre: | > 300 ensembles par mois |
I.Vie d'ensemble
L'eau ultra-pure joue un rôle indispensable et d'une importance cruciale dans le processus de lithographie.et l'eau ultra-pure de qualité lithographique sert de garantie fondamentale pour l'évolution continue de la loi de MooreL'eau ultra-pure (UPW), avec sa teneur extrêmement faible en impuretés, est une eau très propre.est le support idéal pour répondre à ces exigences strictesSa pureté ultime est la garantie fondamentale pour assurer des motifs de lithographie précis, sans défaut et des taux de rendement élevés.
II.Procédure
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank
III.Paramètres
| Paramètre | Valeur requise |
| Résistance | ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C) |
| Le carbone organique total (COT) | Le produit doit être soumis à un contrôle d'approvisionnement en liquide. |
| Particules | Particules > 0,05 μm < 1 par ml |
| Oxygène dissous (DO) | < 5 ppb |
| Contenu bactérien | < 0,01 UFC/mL |
| Dioxyde de silicium (SiO2) | < 1 ppb |
| Ions boroniques/sodiques | < 10 ppt |
IV.Sénarios d'application
Nettoyage des plaquettes
Le lavage après le développement
Dilution et préparation de produits photorésistants/chimiques
Nettoyage des équipements et des composants
V. Voici une ligne directrice pour vous d'obtenir un devis approprié
Indiquez l'eau brute/la source d'eau ((eau du robinet, eau de puits ou eau de mer, etc.)
Fournir un rapport d'analyse de l'eau ((TDS, conductivité ou résistivité, etc.)
Capacité de production requise ((5m3/h, 50m3/h ou 500m3/h, etc.)
Quelle est l'utilisation de l'eau pure (industrielle, alimentaire et des boissons, ou l'agriculture, etc.)
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