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Sistema de purificación de agua industrial integrado con controlador PLC 60 m3/h Sistema de tratamiento de agua ultrapura con UF+RO+ EDI+UV
Calidad del agua: | Resistividad ≥15-18.25 MΩ·cm |
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Tasa de flujo: | Se trata de una medida de la capacidad de producción. |
Modo de funcionamiento: | Totalmente automático |
Planta de Tratamiento de Agua Ultrapura de 110 m3/H para Limpieza de Obleas de Silicio con Módulo EDI
Calidad del agua: | Resistencia ≥ ≥ 18,18 MΩ·cm @ 25°C |
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Tasa de flujo: | 110m³/H (Personalizable) |
Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Sistemas Industriales de Agua Ultrapura de 70T/Hora para la Industria Electrónica
Calidad del agua: | Resistencia ≥ 18,2 MΩ·cm ((25°C) |
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Tasa de flujo: | 70m³/H (Personalizable) |
Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Equipo de agua ultrapura a gran escala de 115 m3/h para semiconductores con módulo EDI
Calidad del agua: | Resistividad ≥15-18.25 MΩ·cm |
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Tasa de flujo: | El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de ef |
Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Equipos de agua ultrapura de tecnología avanzada 50T/H para centrales térmicas
Calidad del agua: | Resistividad ≥15-18.2MΩ·cm |
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Tasa de flujo: | El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de ef |
Proceso básico: | Osmosis inversa + EDI + resina de pulido |
Equipo de agua ultrapura seguro y confiable de 95 m3/h para agua de alimentación de calderas de centrales nucleares
Tasa de flujo: | El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de ef |
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Conductividad eléctrica: | ≤0.1 μS/cm (25°C) |
Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Sistema de filtro de agua industrial fácil de instalar Sistema de agua ultrapura de 90 t/h
Calidad del agua: | Resistencia ≥18,24 MΩ·cm |
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Tasa de flujo: | Se trata de una medida de la capacidad de producción. |
Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Equipo de agua ultrapura de 85 toneladas/h para la producción de ingredientes cosméticos de alta gama
Calidad del agua: | Resistividad ≥ 15 MΩ·cm |
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Tasa de flujo: | 85 m3/h (se puede personalizar) |
Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |
Equipo de agua purificada para la preparación de Medicina Tradicional China (MTC) de 15 m³/h (Personalizable según se requiera)
Capacidad: | 15 m³/h (Personalizable según se requiera) |
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Calidad del agua: | Conductividad Eléctrica < 5μS/cm |
Tecnología de base: | Ósmosis Inversa (OI) de doble etapa + Electrodesionización (EDI) |
Sistema de Ósmosis Inversa Industrial de 90 metros cúbicos por hora + Módulo EDI + Filtro
Calidad del agua: | Resistividad ≥15-18.25 MΩ·cm |
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Tasa de flujo: | 90m3h (se puede personalizar) |
Proceso básico: | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido |