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Sistema de filtro de agua industrial fácil de instalar Sistema de agua ultrapura de 90 t/h
Lugar de origen | Shenzhen, China |
---|---|
Nombre de la marca | HongJie |
Certificación | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
Cantidad de orden mínima | > 1 conjunto |
Precio | US$168700~US$174500 |
Detalles de empaquetado | Casilla de madera estándar de exportación |
Tiempo de entrega | 1-7 días hábiles (depende de la cantidad de materias primas) |
Condiciones de pago | L/C, D/P, T/T, Western Union |
Capacidad de la fuente | >300 juegos/mes |

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xCalidad del agua | Resistencia ≥18,24 MΩ·cm | Tasa de flujo | Se trata de una medida de la capacidad de producción. |
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Proceso básico | Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido | Componentes claves | Módulos de membrana RO, unidades EDI |
Suministro de electricidad | El valor de las emisiones de CO2 | Servicio postventa | garantía de dos años |
Modo de funcionamiento | Totalmente automático | Características del producto | Calidad del agua estable, bajo coste de operación, rendimiento fiable |
Desalación | 990,5% | Capacidad de producción | <0.1 ppb |
Resaltar | Sistema de filtro de agua industrial 90 t/h,Sistema de agua ultrapura de 90 t/h,Fácil de instalar Sistema de filtro de agua industrial |
Sistema de filtro de agua industrial fácil de instalar Sistema de agua ultrapura de 90 t/h para la preparación de productos químicos de grado electrónico
I. Resumen general
El agua ultrapura es una materia prima indispensable en la preparación de productos químicos de grado electrónico (como soluciones de grabado de alta pureza, fotoresistentes y suspensiones CMP).Su pureza afecta directamente al control de las impurezas metálicas, la distribución del tamaño de las partículas y la estabilidad del lote en productos químicos electrónicos.
En la preparación de materiales de calidad electrónicalas sustancias químicas,el agua ultrapura no es sólo un disolvente sino también un entorno de reacción limpio a nivel molecular (purificación extrema, sistema antipolución, motor de alto rendimiento).
II. Proceso
Agua cruda → Tratamiento previo:UF + ablandamiento → RE primario → RE secundario → desgasificación por membrana→ EDI → UV + degradación TOC → lecho mixto de ultra-precisión(resina nuclear de grado) → ultrafiltración terminal(0.01 μm)→ Nitrógeno - Circulación sellada
III. Parámetros límite de agua ultrapura (norma SEMI C63)
Parámetro | Requisito estándar | ||||
Resistencia (25°C) | ≥ 18,24 MΩ·cm | ||||
Capacidad de producción | El valor de la reducción de los residuos | ||||
Oxígeno disuelto (DO) | Se trata de un producto que se utiliza para la fabricación de productos químicos | ||||
Las partículas (≥ 0,05 μm) | < 0,5 partículas/ml | ||||
Metales en huella | |||||
- Na+/K+ | ≤ 0,01 ppt | ||||
- Fe/Cu/Ni | ≤ 0,02 ppt | ||||
- ¿ Qué? | ≤ 0,005 ppt | ||||
Aniones (Cl−/SO42−) | ≤ 0,01 ppt |
IV. Escenarios de aplicación
Productos químicos electrónicos húmedos (ácido fluorhídrico, agua de amoníaco)
Materiales de litografía (fotoresistente de EUV, desarrollador)
Esmerile de pulido CMP (esmerile de dióxido de silicio/óxido de cerio)
Solución de galvanoplastia (solución de galvanoplastia)
V. Aquí hay una guía para obtener una cotización adecuada
Indique el agua cruda/fuente de agua ((agua de grifo, agua de pozo o agua de mar, etc.)
Proporcionar un informe de análisis del agua ((TDS, conductividad o resistividad, etc.)
Capacidad de producción requerida ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, etc.)
¿Para qué se utiliza el agua pura?