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Tratamiento de agua personalizado Sistema de agua ultrapura de 30 toneladas/h para el líquido de pulido CMP

  • Custom Water Treatment 30tons/h Ultra Pure Water System For CMP Polishing Fluid
  • Custom Water Treatment 30tons/h Ultra Pure Water System For CMP Polishing Fluid
Lugar de origen Shenzhen, China
Nombre de la marca HongJie
Certificación ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Cantidad de orden mínima 1 juego
Precio US$66200~US$66500
Detalles de empaquetado Casilla de madera estándar de exportación
Tiempo de entrega 1-7 días hábiles (depende de la cantidad de materias primas)
Condiciones de pago L/C, D/P, T/T, Western Union
Capacidad de la fuente >300 juegos/mes

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Datos del producto
Tasa de flujo 30T/H (Personalizable) Calidad del agua Resistencia ≥ ≥ 18,2 MΩ·cm (25°C)
Capacidad de producción ≤ 1 ppb Las partículas ≤5 partículas/mL (≥0.05μm)
Proceso básico Ósmosis Inversa de Doble Paso + EDI + Resina de Pulido Modo de funcionamiento Totalmente automático
Suministro de electricidad Las demás: Características del producto Calidad del agua estable, bajo coste de operación, rendimiento fiable
Resaltar

Equipo industrial de agua ultrapura

,

Sistemas de agua ultrapura personalizables
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Descripción de producto

I.Resumen general
El agua ultrapura es un componente esencial indispensable en las soluciones de pulido por pulido mecánico químico (CMP).con una puridad que determina directamente el rendimiento de la solución de pulido y el rendimiento de las astillasEn la fabricación de semiconductores, las soluciones de pulido CMP deben cumplir con los requisitos de planarización a nivel de nanómetro.El agua ultrapura juega un papel crítico y cumple con estrictos requisitos técnicos en esta aplicación..
En las soluciones de pulido CMP, el agua ultrapura no es solo un disolvente sino también un componente activo que determina la uniformidad de pulido, las tasas de defectos y la confiabilidad de los chips.Un sistema de agua ultrapura conforme a la norma SEMI F63-1109 es la piedra angular para lograr una tasa de rendimiento superior al 95% en procesos avanzados (7 nm y menos).


II.Proceso estándar
Municipal Tap Water → Pretreatment (Multi - media Filtration) → Activated Carbon Adsorption (Residual Chlorine Removal) → Two - stage RO → EDI (Electrodeionization) Continuous Deionization → Mixed Bed Polishing → 185/254nm UV→ 0.05μm Ultrafiltración → Membrana de desgasificación → Nitrógeno - Tanque de almacenamiento sellado → Tubo de acero inoxidable de 316L → Línea de producción de lodos de CMP


III.Parámetros

Parámetros Requisitos
Resistencia ≥ 18,2 MΩ·cm (25 °C)
Capacidad de producción ≤ 1 ppb
Las partículas ≤ 5 partículas/mL (≥ 0,05 μm)
Oxígeno disuelto ≤ 10 ppm
Iones metálicos El contenido de nitrato de sodio en el agua es inferior a 0,01 ppb
Fe/Cu/Al < 0,005 ppb
Aniones Cloruro de sodio (Cl−/SO42−) < 0,02 ppb
Los microorganismos < 0, 1 UFC/ ml


IV.Las funciones principales del agua ultrapura en el fluido de pulido CMP
Portador del disolvente
Medio de reacción
Control de los contaminantes


V. Aquí hay una guía para que usted obtenga una cotización adecuada
Indique el agua cruda/fuente de agua ((agua de grifo, agua de pozo o agua de mar, etc.)
Proporcionar un informe de análisis del agua ((TDS, conductividad o resistividad, etc.)
Capacidad de producción requerida ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, etc.)
¿Para qué se utiliza el agua pura?


Etiquetas:

Equipo de agua ultrapura

Sistema de tratamiento de agua pura

Sistema de agua purificada