Szczegóły produktów

Created with Pixso. Do domu Created with Pixso. produkty Created with Pixso.
Urządzenia do wody ultraczystej
Created with Pixso.

Łatwy w instalacji przemysłowy system filtracji wody 90 t/h system wody ultra czystej

Łatwy w instalacji przemysłowy system filtracji wody 90 t/h system wody ultra czystej

Nazwa Marki: HongJie
MOQ: > 1set
Ceny: US$168700~US$174500
Warunki płatności: L/C,D/P,T/T,Western Union
Umiejętność dostaw: > 300Sets/miesiąc
Szczegółowe informacje
Miejsce pochodzenia:
Shenzhen, Chiny
Orzecznictwo:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
jakość wody:
Rezystywność ≥18,24 MΩ · cm
Wskaźnik przepływu:
75 m3/h (możliwe do dostosowywania)
Proces podstawowy:
Podwójna żywica polerowania odwrotnej osmozy + EDI +
Kluczowe komponenty:
Moduły membrane, jednostki EDI
Zaopatrzenie w energię elektryczną:
380 V/22ov
Usługa posprzedażna:
2 lata gwarancji
Tryb działania:
całkowicie automatyczny
cechy produktu:
Stabilna jakość wody, niski koszt pracy, niezawodna wydajność
Odsolenie:
99,5%
Spis treści:
<0,1 ppb
Szczegóły pakowania:
Eksportuj standardową drewnianą skrzynkę
Podkreślić:

Przemysłowy system filtracji wody 90 t/h

,

90 t/h system wody ultra czystej

,

Łatwy w instalacji przemysłowy system filtracji wody

Opis produktu

Łatwy do zainstalowania przemysłowy system filtracji wody 90t/h Ultra czysty system wody do przygotowania chemikaliów elektronicznych

 

I. Przegląd
Woda ultraczysta jest niezbędnym surowcem w produkcji chemikaliów elektronicznych (takich jak wysokoczystne roztwory etsujące, fotorezystanty i slurry CMP).Jego czystość bezpośrednio wpływa na kontrolę zanieczyszczeń metalowych, rozkład wielkości cząstek i stabilność partii w elektronikach.
W produkcji elektronicznej
substancje chemiczne,woda ultraczysta jest nie tylko rozpuszczalnikiem, ale także czyste środowisko reakcji na poziomie molekularnym (skrajne oczyszczanie, system przeciwdziałający zanieczyszczeniu, silnik wydajny).

 

II. Proces

Woda surowa → wstępna obróbka:UF + zmiękczanie → pierwotne RO → wtórne RO → odgazowanie membranowe→ EDI → UV + degradacja TOC → ultra-precyzyjne mieszane łóżko ((Rozpuszczalność jądrowa) → ultrafiltracja końcowa)).01 μm)→ Azot - zamknięty krążenie

 

III. Parametry dopuszczalne dla wody ultraczystej (standardy SEMI C63)

Parametry Wymóg standardowy
Odporność (25°C) ≥ 18,24 MΩ·cm
CZP < 0,1 ppb
Tlen rozpuszczony (DO) < 0,5 ppb
Cząsteczki (≥ 0,05 μm) < 0,5 cząstek/ml
Metali śladowych
- Na+/K+ ≤ 0,01 ppt
- Fe/Cu/Ni ≤ 0,02 ppt
- B. ≤ 0,005 ppt
Aniony (Cl−/SO42−) ≤ 0,01 ppt

 

IV. Scenariusze zastosowania
Włocne chemikalia elektroniczne (kwas fluorowodorowy, woda amoniakowa)
Materiały litograficzne (EUV photoresist, twórca)
Ślizga do polerowania CMP (ślizga z dwutlenku krzemu/tlenku sera)
Roztwór elektroplastyczny (roztwór elektroplastyczny)

 

V. Oto wskazówka, aby uzyskać odpowiednią cenę
Podaj nam surową wodę/źródło wody ((woda z kranu, woda z studni lub woda morska itp.)
Zapewnienie sprawozdania z analizy wody ((TDS, przewodność lub rezystywność itp.)
Wymagana zdolność produkcyjna ((5m3/h, 50m3/h lub 500m3/h itp.)
Do czego służy czysta woda (przemysłowa, spożywcza, rolnicza itp.)