product details

Created with Pixso. Huis Created with Pixso. Producten Created with Pixso.
Ultrazuivere waterapparatuur
Created with Pixso.

Makkelijk te installeren industriële waterfiltersysteem Ultra zuiver water systeem 90t/h

Makkelijk te installeren industriële waterfiltersysteem Ultra zuiver water systeem 90t/h

Merknaam: HongJie
Moq: > 1 set
Prijs: US$168700~US$174500
Betalingsvoorwaarden: L/C,D/P,T/T,Western Union
Leveringsvermogen: > 300 stuks/maand
Gedetailleerde informatie
Plaats van herkomst:
Shenzhen, China
Certificering:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Waterkwaliteit:
Resistiviteit ≥18,24 MΩ·cm
Debiet:
75 m³/u (Aanpasbaar)
Kernproces:
Dubbele omgekeerde osmose + EDI + Polijsthars
Belangrijke onderdelen:
RO Membraan Modules, EDI Units
Elektriciteitsvoorziening:
380V/22oV
Naverkoopservice:
de garantie van 2 jaar
Operatiemodus:
Volledig automatisch
Productkenmerken:
Stabiele waterkwaliteit, lage exploitatiekosten, betrouwbare prestaties
Ontzilting:
990,5%
TOC:
<0,1 µg/l
Verpakking Details:
Export standaard houten behuizing
Markeren:

Industrieel waterfiltersysteem 90 t/h

,

90t/h ultra zuiver water systeem

,

Makkelijk te installeren industrieel waterfiltersysteem

Productbeschrijving

Makkelijk te installeren industrieel waterfiltersysteem 90t/h Ultra zuiver water systeem voor het bereiden van elektronische chemische stoffen

 

I. Overzicht
Ultrazuiver water is een onmisbare grondstof bij de bereiding van chemische stoffen van elektronische kwaliteit (zoals hoogzuivere etseringsoplossingen, fotoresisten en CMP-slijmen).De zuiverheid ervan heeft rechtstreeks invloed op de controle van metaalverontreinigingen, deeltjesgrootteverdeling en batchstabiliteit in elektronische chemicaliën.
voor de vervaardiging van elektronica
chemische stoffen,ultrazuiver water is niet alleen een oplosmiddel, maar ook een zuivere reactieomgeving op moleculair niveau (extreme zuivering, systeem tegen verontreiniging, prestatiemotor).

 

II. Proces

Ruw water → Voorbehandeling:UF + verzachting → primaire RO → secundaire RO → membraanontgassing→ EDI → UV + TOC-degradatie → ultra-precieze gemengde bed ((Nucleaire hars)) → terminale ultrafiltratie)).01 μm)→ stikstof - verzegelde circulatie

 

III. Grensparameters voor ultrazuiver water (SEMI-norm C63)

Parameter Standaardvereiste
Resistiviteit (25°C) ≥ 18,24 MΩ·cm
TOC < 0,1 ppb
Gesolde zuurstof (DO) < 0,5 ppb
Deeltjes (≥ 0,05 μm) < 0,5 deeltjes/ml
Metalen in de sporen
- Na+/K+ ≤ 0,01 ppt
- Fe/Cu/Ni ≤ 0,02 ppt
- B. ≤ 0,005 ppt
Anionen (Cl−/SO42−) ≤ 0,01 ppt

 

IV. Toepassingsscenarios
natte elektronische chemicaliën (fluorzuur, ammoniakwater)
Lithografische materialen (EUV-fotoresist, ontwikkelaar)
CMP-polijstloer (siliciumdioxide/ceriumoxide-loer)
Elektroplating oplossing (elektroplating oplossing)

 

V. Hier is een richtlijn voor u om een goede offerte te krijgen
Vertel ons het ruwe water/de bron van water ((kraanwater, putwater of zeewater, enz.))
Verstrek een wateranalyseverslag (TDS, geleidbaarheid of weerstand, enz.)
Vereiste productiecapaciteit ((5m3/h, 50m3/h of 500m3/h, enz.)
Wat is het zuivere water gebruikt voor ((industrie, voedsel en drank, of landbouw, enz.)