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Einfach zu installierendes industrielles Wasserfiltersystem 90 t/h Ultra-Reinwasser-System
| Herkunftsort | Shenzhen, China |
|---|---|
| Markenname | HongJie |
| Zertifizierung | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
| Min Bestellmenge | >1 Satz |
| Preis | US$168700~US$174500 |
| Verpackung Informationen | Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard |
| Lieferzeit | 1-7 Werktage (abhängig von der Lagerhaltung der Rohmaterialien) |
| Zahlungsbedingungen | L/C, D/P, T/T, Western Union |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | > 300 Stück/Monat |
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xProduktdetails
| Wasserqualität | Widerstand ≥18,24 MΩ·cm | Flussrate | 75 m³/h (Anpassbar) |
|---|---|---|---|
| Kernprozess | Doppelpass-Umkehrosmose + EDI + Polierharz | Schlüsselkomponenten | RO-Membranmodule, EDI-Einheiten |
| Elektrizitätsversorgung | 380V/22oV | Dienstleistungen nach dem Verkauf | 2-jährige Garantie |
| Betriebsmodus | Vollautomatik | Produktmerkmale | Stabile Wasserqualität, geringe Betriebskosten, zuverlässige Leistung |
| Entsalzen | 990,5% | Zentrale Position | < 0,1 ppb |
| Hervorheben | Industrielles Wasserfiltersystem 90 t/h,90 t/h Ultra-Reinwasser-System,Einfach zu installierendes industrielles Wasserfiltersystem |
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Produkt-Beschreibung
Einfach zu installierendes industrielles Wasserfiltersystem 90 t/h Ultra-Reinwasser-System für die Herstellung von Chemikalien in Elektronikqualität
I. Überblick
Ultra-Reinwasser ist ein unverzichtbarer Rohstoff bei der Herstellung von Chemikalien in Elektronikqualität (wie hochreine Ätzlösungen, Photoresists und CMP-Slurries). Seine Reinheit beeinflusst direkt die Kontrolle von Metallverunreinigungen, die Partikelgrößenverteilung und die Chargenstabilität in elektronischen Chemikalien.
Bei der Herstellung von Chemikalien in Elektronikqualität ist Ultra-Reinwasser nicht nur ein Lösungsmittel, sondern auch eine saubere Reaktionsumgebung auf molekularer Ebene (extreme Reinigung, System-Anti-Verschmutzung, Leistungs-Engine).II. Prozess
Rohwasser → Vorbehandlung: UF + Enthärtung → Primäre RO → Sekundäre RO → Membranentgasung → EDI → UV + TOC-Abbau → Ultrapräzises Mischbett (Kernharz) → Terminale Ultrafiltration (0,01 μm) → Stickstoffversiegelte Zirkulation
III. Grenzparameter für Ultra-Reinwasser (SEMI C63-Standard)
Parameter
| Standardanforderung | Spezifischer Widerstand (25°C) | ||||
| ≥18,24 MΩ·cm | TOC | ||||
| <0,1 ppb | Gelöster Sauerstoff (DO) | ||||
| <0,5 ppb | Partikel (≥0,05 μm) | ||||
| <0,5 Partikel/ml | Spurenmetalle | ||||
| - Na⁺/K⁺ | |||||
| ≤0,01 ppt | IV. Anwendungsszenarien | ||||
| ≤0,02 ppt | - B | ||||
| ≤0,005 ppt | Anionen (Cl⁻/SO₄²⁻) | ||||
| ≤0,01 ppt | IV. Anwendungsszenarien | ||||
Nasselektronikchemikalien (Flusssäure, Ammoniakwasser)
Lithografiematerialien (EUV-Photoresist, Entwickler)
CMP-Poliersuspension (Siliziumdioxid-/Ceroxid-Suspension)
Galvanisierlösung (Galvanisierlösung)
V. Hier ist eine Richtlinie, um ein passendes Angebot zu erhalten
Teilen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle mit (Leitungswasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.)
Stellen Sie einen Wasseranalysebericht bereit (TDS, Leitfähigkeit oder spezifischer Widerstand usw.)
Erforderliche Produktionskapazität (5 m³/h, 50 m³/h oder 500 m³/h usw.)
Wofür wird das Reinwasser verwendet (Industrie, Lebensmittel und Getränke oder Landwirtschaft usw.)
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