Detalhes dos produtos

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Equipamento de água ultrapura
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Sistema de filtro de água industrial fácil de instalar Sistema de água ultra pura 90t/H

Sistema de filtro de água industrial fácil de instalar Sistema de água ultra pura 90t/H

Nome da marca: HongJie
MOQ: > 1 conjunto
Preço: US$168700~US$174500
Termos de pagamento: L/C,D/P,T/T,Western union
Capacidade de fornecimento: >300 conjuntos/mês
Informações Detalhadas
Lugar de origem:
Shenzhen, China
Certificação:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Qualidade da água:
Resistividade ≥≥18.24 MΩ·cm
Taxa de Fluxo:
75 m3/h (customizável)
Processos essenciais:
Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento
Componentes-chave:
Módulos de Membrana RO, Unidades EDI
Fornecimento de eletricidade:
380V/22oV
Serviço pós-venda:
garantia de 2-ano
Modo de funcionamento:
Totalmente automático
Características do produto:
Qualidade estável da água, baixo custo de exploração, desempenho fiável
Dessanilização:
990,5%
TOC:
<0,1 ppb
Detalhes da embalagem:
Caixa de madeira padrão de exportação
Destacar:

Sistema de filtro de água industrial 90 t/h

,

Sistema de água ultra pura de 90 t/h

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Fácil de instalar sistema de filtro de água industrial

Descrição do produto

Fácil de instalar Sistema de filtro de água industrial 90t/H Sistema de água ultra pura para preparação de produtos químicos eletrônicos

 

I. Visão geral
A água ultrapura é uma matéria-prima indispensável na preparação de produtos químicos de grau eletrônico (como soluções de gravação de alta pureza, fotoresistentes e lulas CMP).A sua pureza afecta directamente o controlo das impurezas metálicas, distribuição do tamanho das partículas e estabilidade dos lotes em produtos químicos eletrónicos.
Para a preparação de produtos de qualidade electrónica
produtos químicos,A água ultrapura não é apenas um solvente, mas também um ambiente de reação limpo a nível molecular (purificação extrema, sistema anti-poluição, motor de desempenho).

 

II. Processo

Água crua → Pré-tratamento:UF + Amolecimento → RE primário → RE secundário → Degassamento por membrana→ EDI → UV + Degradação TOC → Cama mista de ultra-precisão ((Resina nuclear de qualidade) → Ultrafiltração terminal)).01 μm)→ Nitrogénio - Circulação selada

 

III. Parâmetros-limite de água ultrapura (norma SEMI C63)

Parâmetro Requisito padrão
Resistividade (25°C) ≥ 18,24 MΩ·cm
TOC < 0,1 ppm
Oxigénio dissolvido (DO) < 0,5 ppb
Partículas (≥ 0,05 μm) < 0,5 partículas/mL
Traços de metais
- Na+/K+ ≤ 0,01 ppt
- Fe/Cu/Ni ≤ 0,02 ppt
- B. ≤ 0,005 ppt
Aniões (Cl−/SO42−) ≤ 0,01 ppt

 

IV. Cenários de aplicação
Produtos químicos eletrónicos úmidos (ácido fluorídrico, água de amônia)
Materiais de litografia (EUV fotoresistente, desenvolvedor)
Slurry de polimento CMP (slurry de dióxido de silício/óxido de cério)
Solução de galvanização

 

V. Aqui está uma orientação para você obter um orçamento adequado
Diga-nos a água crua/fonte de água ((água de torneira, água de poço ou água do mar, etc.)
Fornecer relatório de análise de água ((TDS, condutividade ou resistividade, etc.)
Capacidade de produção necessária ((5m3/H, 50m3/H, ou 500m3/H, etc.)
Para que é utilizada a água pura (industrial, alimentar, agrícola, etc.)?