Détails des produits

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Équipement pour l'eau ultrapure
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Système de filtration d'eau industriel facile à installer 90 t/h Système d'eau ultra pure

Système de filtration d'eau industriel facile à installer 90 t/h Système d'eau ultra pure

Nom De La Marque: HongJie
MOQ: > 1 jeu
Le Prix: US$168700~US$174500
Conditions De Paiement: L/C, D/P, T/T, Western Union
Capacité D'offre: > 300 ensembles par mois
Informations détaillées
Lieu d'origine:
Shenzhen, en Chine
Certification:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Qualité de l'eau:
Résistivité ≥≥18.24 MΩ·cm
Débit:
75 m3/h (peut être personnalisé)
Processus de base:
L'osmose inverse à double passage + EDI + résine de polissage
Composantes clés:
Modules à membrane RO, unités EDI
L'approvisionnement en électricité:
380V ou 22oV
Service après-vente:
garantie de deux ans
Mode de fonctionnement:
Entièrement automatique
Caractéristiques du produit:
Qualité de l'eau stable,faible coût d'exploitation,performance fiable
Dessalement:
990,5%
CdT:
<0,1 ppb
Détails d'emballage:
Casse en bois standard pour l'exportation
Mettre en évidence:

Système de filtration d'eau industriel 90 t/h

,

Système d'eau ultra pure 90 t/h

,

Système de filtration d'eau industriel facile à installer

Description du produit

Système de filtration d'eau industriel facile à installer Système d'eau ultra pure 90 t/h pour la préparation de produits chimiques de qualité électronique

 

I. Résumé
L'eau ultra-pure est une matière première indispensable dans la préparation de produits chimiques de qualité électronique (tels que des solutions de gravure de haute pureté, des photorésistes et des lisières CMP).Sa pureté affecte directement le contrôle des impuretés métalliques, la répartition de la taille des particules et la stabilité des lots dans les produits chimiques électroniques.
Dans la préparation de produits électroniques de qualité
les produits chimiques,L'eau ultra-pure est non seulement un solvant, mais aussi un environnement de réaction propre au niveau moléculaire (purification extrême, système antipollution, moteur performant).

 

II. Le processus

Eau brute → Prétraitement:UF + adoucissement → RO primaire → RO secondaire → Dégassage par membrane→ EDI → UV + dégradation TOC → Lit mixte ultra-précis ((Résine nucléaire de qualité) → Ultrafiltration terminale)).01 μm)→ Azot - Circulation scellée

 

III. Paramètres limites d'eau ultra-pure (norme SEMI C63)

Paramètre Exigence standard
Résistance (25°C) ≥ 18,24 MΩ·cm
CdT < 0,1 ppb
Oxygène dissous (DO) < 0,5 ppb
Particules (≥ 0,05 μm) < 0,5 particules/mL
Traces de métaux
- Le Na+/K+ ≤ 0,01 ppt
- Fe/Cu/Ni ≤ 0,02 ppt
- C' est B. ≤ 0,005 ppt
Anions (Cl−/SO42−) ≤ 0,01 ppt

 

IV. Scénarios d'application
Produits chimiques électroniques humides (acide fluorhydrique, eau d'ammoniac)
Matériaux de lithographie (EUV photoresist, développeur)
Slurry de polissage CMP (slurry de dioxyde de silicium/oxyde de cérium)
Solution de galvanoplastie

 

V. Voici une ligne directrice pour vous d'obtenir un devis approprié
Indiquez l'eau brute/la source d'eau ((eau du robinet, eau de puits ou eau de mer, etc.)
Fournir un rapport d'analyse de l'eau ((TDS, conductivité ou résistivité, etc.)
Capacité de production requise ((5m3/h, 50m3/h ou 500m3/h, etc.)
Quelle est l'utilisation de l'eau pure (industrielle, alimentaire et des boissons, ou l'agriculture, etc.)