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産業用水フィルターシステム 設置が簡単 超純水システム 90t/H
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x商品の詳細
| 水質 | 抵抗率 ≥≥18.24 MΩ·cm | 流量 | 75m³/H (カスタマイズ可能) |
|---|---|---|---|
| 基本プロセス | 2度逆オスモス+EDI+磨き樹脂 | 主要部分 | RO膜モジュール、EDIユニット |
| 電力供給 | 380V/22oV | アフターサービス | 2年の保証 |
| 動作モード | 全自動 | 製品の特徴 | 安定した水質,低運用コスト,信頼性の高い性能 |
| 脱塩 | 990.5% | トー・コ | <0.1 ppb |
| ハイライト | 工業用水フィルターシステム 90t/H,90t/H 超純水システム,簡単にインストール 工業用水フィルターシステム |
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製品の説明
設置が容易な工業用水フィルターシステム 90t/H 超純水システム 電子グレード化学薬品調製用
I. 概要
超純水は、電子グレード化学薬品（高純度エッチング液、フォトレジスト、CMPスラリーなど）の調製に不可欠な原料です。その純度は、電子化学薬品中の金属不純物、粒子サイズ分布、およびバッチ安定性の制御に直接影響します。
電子グレードの調製において 化学薬品、超純水は溶媒であるだけでなく、分子レベルのクリーンな反応環境（極限精製、システム汚染防止、性能エンジン）でもあります。
II. プロセス
原水 → 前処理：UF + 軟化 → 一次RO → 二次RO → 膜脱気 → EDI → UV + TOC分解 → 超精密混床（核グレード樹脂）→ ターミナル限外ろ過（0.01 μm）→ 窒素封入循環
III. 超純水限界パラメータ（SEMI C63規格）
| パラメータ | 標準要件 | ||||
| 抵抗率（25℃） | ≥18.24 MΩ·cm | ||||
| TOC | <0.1 ppb | ||||
| 溶存酸素（DO） | <0.5 ppb | ||||
| 粒子（≥0.05μm） | <0.5 particles/mL | ||||
| 微量金属 | |||||
| - Na⁺/K⁺ | ≤0.01 ppt | ||||
| - Fe/Cu/Ni | ≤0.02 ppt | ||||
| - B | ≤0.005 ppt | ||||
| 陰イオン（Cl⁻/SO₄²⁻） | ≤0.01 ppt | ||||
IV. 適用シナリオ
湿式電子化学薬品（フッ酸、アンモニア水）
リソグラフィー材料（EUVフォトレジスト、現像液）
CMP研磨スラリー（二酸化ケイ素/酸化セリウムスラリー）
電気めっき液（電気めっき液）
V. 適切な見積もりを得るためのガイドライン
原水/水源（水道水、井戸水、海水など）をお知らせください
水質分析レポート（TDS、導電率、抵抗率など）をご提供ください
必要な生産能力（5m³/H、50m³/H、または500m³/Hなど）
純水の用途（工業用、食品・飲料用、農業用など）
