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x| 수질 | 저항성 ≥18.24 MΩ · cm | 유동률 | 75m³/h (사용자 정의 가능) | 
|---|---|---|---|
| 핵심프로세스 | 이중 통과 역삼 투 + EDI + 연마 수지 | 핵심 부품 | RO 멤브레인 모듈, EDI 장치 | 
| 전기 공급 | 380V/22OV | 판매 후 서비스 | 2년 보증 | 
| 조작 모드 | 완전 자동 | 제품 특징 | 안정적인 수질, 낮은 작동 비용, 안정적인 성능 | 
| 탈염 | 99.5% | TOC | <0.1 ppb | 
| 강조하다 | 산업용 물 필터 시스템 90t/H,90t/H 초순수 시스템,쉽게 설치 산업용 물 필터 시스템 | 
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설치 용이한 산업용 정수 필터 시스템 90t/H 초순수 시스템 (전자 등급 화학 물질 준비용)
I. 개요
초순수는 전자 등급 화학 물질(고순도 에칭 용액, 포토레지스트, CMP 슬러리 등) 준비에 필수적인 원료입니다. 그 순도는 전자 화학 물질의 금속 불순물 제어, 입자 크기 분포 및 배치 안정성에 직접적인 영향을 미칩니다. 
전자 등급 화학 물질 준비에 있어서 초순수는 용매일 뿐만 아니라 분자 수준의 청정 반응 환경(극정제, 시스템 오염 방지, 성능 엔진)이기도 합니다.II. 공정
원수 → 전처리: UF + 연화 → 1차 RO → 2차 RO → 막 탈기 → EDI → UV + TOC 분해 → 초정밀 혼상탑(원자력 등급 수지) → 최종 정밀 여과(0.01 μm) → 질소 밀봉 순환
III. 초순수 제한 파라미터 (SEMI C63 표준)
파라미터
| 표준 요구 사항 | 비저항 (25°C) | ||||
| ≥18.24 MΩ·cm | TOC | ||||
| <0.1 ppb | 용존 산소 (DO) | ||||
| <0.5 ppb | 입자 (≥0.05μm) | ||||
| <0.5 particles/mL | 미량 금속 | ||||
| - Na⁺/K⁺ | |||||
| ≤0.01 ppt | IV. 적용 시나리오 | ||||
| ≤0.02 ppt | - B | ||||
| ≤0.005 ppt | 음이온 (Cl⁻/SO₄²⁻) | ||||
| ≤0.01 ppt | IV. 적용 시나리오 | ||||
습식 전자 화학 물질 (불산, 암모니아수)
리소그래피 재료 (EUV 포토레지스트, 현상액)
CMP 연마 슬러리 (이산화규소/세륨 산화물 슬러리)
전기도금 용액 (전기도금 용액)
V. 적절한 견적을 받기 위한 지침입니다.
원수/수원(수돗물, 우물물, 해수 등)을 알려주세요.
수질 분석 보고서(TDS, 전도도 또는 비저항 등)를 제공하십시오.
필요한 생산 능력(5m³/H, 50m³/H 또는 500m³/H 등)
순수한 물을 어디에 사용하십니까(산업, 식품 및 음료 또는 농업 등)
