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Planta de Tratamento de Água Ultra Pura de 7 toneladas/h com Eficiência Energética para Fabricação de Wafer
| Lugar de origem | Guangdong, China |
|---|---|
| Marca | HongJie |
| Certificação | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
| Quantidade de ordem mínima | >= 1 conjunto |
| Preço | US$20500~US$21000 |
| Detalhes da embalagem | Caixa de madeira padrão de exportação |
| Tempo de entrega | 1-7 dias úteis (dependem da existência de matérias-primas) |
| Termos de pagamento | L/C,D/P,T/T,Western union |
| Habilidade da fonte | >300 conjuntos/mês |
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xDetalhes do produto
| Taxa de Fluxo | 7 m³/h (Personalizável) | Resistividade (25°C) | ≈ 18,24 MΩ·cm |
|---|---|---|---|
| Processos essenciais | Osmose Reversa de Duplo Passe + EDI | Componentes essenciais | Módulos de Membrana RO, Unidades EDI |
| Modo de funcionamento | Automatizado inteiramente | Características do produto | Produção estável de qualidade da água, baixos custos operacionais |
| Serviço pós-venda | Suporte técnico 24 horas por dia, 24 horas por dia, manutenção de 2 anos | TOC | < 0,5 ppb |
| Destacar | Tratamento de Água Ultra Pura de 7 toneladas/h,Tratamento de Água Ultra Pura com Eficiência Energética,Planta de tratamento de água pura com eficiência energética |
||
Descrição de produto
I.Visão geral
A água ultrapura (UPW) é um meio fundamental para manter a pureza do processo na fabricação de wafers.tornando-se a "linha de vida invisível" da fabricação de wafers.
II.Processo
Raw Water → Raw Water Pressure Pump → Multimedia Filter → Activated Carbon Filter → Water Softener → Precision Filter → Primary RO → pH Adjustment → Intermediate Water Tank → Secondary RO → Intermediate Water Tank → Intermediate Water Pump → EDI System → Purified Water Tank → Pure Water Pump → UV Sterilizer → Microporous Filter →Pasteurization → Water Point
III. Características do processo
Zero poluição química durante todo o processo (EDI substitui a regeneração ácido-base)
Reciclagem concentrada de água, poupança de água > 30%
Controle sinérgico duplo UV de TOC/micróbios
Divisão da temperatura para atender a diferentes requisitos de processo
IV.Parâmetros
| Parâmetro | Requisito de qualidade do chip (≤ 7 nm) |
||||
| Resistividade (25°C) | ≈ 18,24 MΩ·cm | ||||
| TOC | < 0,5 ppb | ||||
| Partículas (> 0,05 μm) | < 0,1 partículas/ml | ||||
| Iões metálicos | < 0,1 ppt | ||||
| Oxigénio dissolvido (DO) | < 1 ppb | ||||
| Bactérias | ≤ 0,01 UFC/ml |
V. Principais aplicações
Limpeza de wafer
Poluição química mecânica (CMP)
Gravura e deposição de filme
Água de arrefecimento e água funcional
VI.Aqui está uma orientação para obter um orçamento adequado
Diga-nos a água crua/fonte de água ((água de torneira, água de poço ou água do mar, etc.)
Fornecer relatório de análise de água ((TDS, condutividade ou resistividade, etc.)
Capacidade de produção necessária ((5m3/H, 50m3/H, ou 500m3/H, etc.)
Para que é utilizada a água pura (industrial, alimentar, agrícola, etc.)?
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