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Accesorios para equipos de tratamiento de agua
Planta de tratamiento de agua ultrapura de 7 toneladas/h de eficiencia energética para fabricación de obleas
Lugar de origen | Guangdong, China |
---|---|
Nombre de la marca | HongJie |
Certificación | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
Cantidad de orden mínima | >=1conjuntos |
Precio | US$20500~US$21000 |
Detalles de empaquetado | Casilla de madera estándar de exportación |
Tiempo de entrega | 1-7 días hábiles (depende de la cantidad de materias primas) |
Condiciones de pago | L/C, D/P, T/T, Western Union |
Capacidad de la fuente | >300 juegos/mes |

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xTasa de flujo | 7m3/h (customizable) | Resistencia (25°C) | ≈ 18,24 MΩ·cm |
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Proceso básico | Osmosis inversa de doble paso + EDI | Componentes básicos | Módulos de membrana RO, unidades EDI |
Modo de funcionamiento | Automatizado completamente | Características del producto | Salida de calidad de agua estable, Bajos costos operativos |
Servicio postventa | Soporte técnico 24/7, Mantenimiento de 2 años | Capacidad de producción | < 0.5 ppb |
Resaltar | 7 toneladas/h Tratamiento de agua ultrapura,Tratamiento de agua ultrapura eficiente en energía,Instalaciones de tratamiento de agua pura energéticamente eficientes |
I.Resumen general
El agua ultrapura (UPW) es un medio clave para mantener la pureza del proceso en la fabricación de obleas.lo que lo convierte en la "línea de vida invisible" de la fabricación de obleas.
II.Proceso
Raw Water → Raw Water Pressure Pump → Multimedia Filter → Activated Carbon Filter → Water Softener → Precision Filter → Primary RO → pH Adjustment → Intermediate Water Tank → Secondary RO → Intermediate Water Tank → Intermediate Water Pump → EDI System → Purified Water Tank → Pure Water Pump → UV Sterilizer → Microporous Filter →Pasteurization → Water Point
III. Características del proceso
Cero contaminación química durante todo el proceso (EDI sustituye la regeneración ácido-base)
Reciclaje de agua concentrada, ahorro de agua > 30%
Control sinérgico UV doble de la TOC/microbios
Temperatura dividida para adaptarse a los diferentes requisitos del proceso
IV.Parámetros
Parámetro | Requisito de grado de chip (≤ 7 nm) |
||||
Resistencia (25°C) | ≈ 18,24 MΩ·cm | ||||
Capacidad de producción | < 0,5 ppm | ||||
Las partículas (> 0,05 μm) | < 0,1 partículas/ml | ||||
Iones metálicos | < 0,1 ppt | ||||
Oxígeno disuelto (DO) | Se trata de un | ||||
Las bacterias | ≤ 0,01 UFC/ml |
V. Principales aplicaciones
Limpieza de las obleas
Polido mecánico químico (CMP)
El grabado y la deposición de películas
Refrigeración y agua funcional
VI.Aquí hay una guía para obtener una cotización adecuada
Indique el agua cruda/fuente de agua ((agua de grifo, agua de pozo o agua de mar, etc.)
Proporcionar un informe de análisis del agua ((TDS, conductividad o resistividad, etc.)
Capacidad de producción requerida ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, etc.)
¿Para qué se utiliza el agua pura?