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Equipo de agua ultrapura
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Planta de tratamiento de agua ultrapura de 7 toneladas/h de eficiencia energética para fabricación de obleas

Planta de tratamiento de agua ultrapura de 7 toneladas/h de eficiencia energética para fabricación de obleas

Nombre De La Marca: HongJie
Moq: >=1conjuntos
Precio: US$20500~US$21000
Términos De Pago: L/C, D/P, T/T, Western Union
Capacidad De Suministro: >300 juegos/mes
Información Detallada
Lugar de origen:
Guangdong, China
Certificación:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Tasa de flujo:
7m3/h (customizable)
Resistencia (25°C):
≈ 18,24 MΩ·cm
Proceso básico:
Osmosis inversa de doble paso + EDI
Componentes básicos:
Módulos de membrana RO, unidades EDI
Modo de funcionamiento:
Automatizado completamente
Características del producto:
Salida de calidad de agua estable, Bajos costos operativos
Servicio postventa:
Soporte técnico 24/7, Mantenimiento de 2 años
Capacidad de producción:
< 0.5 ppb
Detalles de empaquetado:
Casilla de madera estándar de exportación
Resaltar:

7 toneladas/h Tratamiento de agua ultrapura

,

Tratamiento de agua ultrapura eficiente en energía

,

Instalaciones de tratamiento de agua pura energéticamente eficientes

Descripción del Producto

I.Resumen general
El agua ultrapura (UPW) es un medio clave para mantener la pureza del proceso en la fabricación de obleas.lo que lo convierte en la "línea de vida invisible" de la fabricación de obleas.

 

II.Proceso
Raw Water → Raw Water Pressure Pump → Multimedia Filter → Activated Carbon Filter → Water Softener → Precision Filter → Primary RO → pH Adjustment → Intermediate Water Tank → Secondary RO → Intermediate Water Tank → Intermediate Water Pump → EDI System → Purified Water Tank → Pure Water Pump → UV Sterilizer → Microporous Filter →Pasteurization → Water Point

 

III. Características del proceso
Cero contaminación química durante todo el proceso (EDI sustituye la regeneración ácido-base)
Reciclaje de agua concentrada, ahorro de agua > 30%
Control sinérgico UV doble de la TOC/microbios
Temperatura dividida para adaptarse a los diferentes requisitos del proceso

 

IV.Parámetros

Parámetro Requisito de grado de chip
 (≤ 7 nm)
Resistencia (25°C) ≈ 18,24 MΩ·cm
Capacidad de producción < 0,5 ppm
Las partículas (> 0,05 μm) < 0,1 partículas/ml
Iones metálicos < 0,1 ppt
Oxígeno disuelto (DO) Se trata de un
Las bacterias ≤ 0,01 UFC/ml

 

V. Principales aplicaciones
Limpieza de las obleas
Polido mecánico químico (CMP)
El grabado y la deposición de películas
Refrigeración y agua funcional

 

VI.Aquí hay una guía para obtener una cotización adecuada
Indique el agua cruda/fuente de agua ((agua de grifo, agua de pozo o agua de mar, etc.)
Proporcionar un informe de análisis del agua ((TDS, conductividad o resistividad, etc.)
Capacidad de producción requerida ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, etc.)
¿Para qué se utiliza el agua pura?