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ウェーハ製造用省エネ7トン/H超純水処理プラント
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x商品の詳細
| 流量 | 7m³/h（カスタマイズ可能） | 耐性 (25°C) | ≈18.24 MΩ·cm |
|---|---|---|---|
| 基本プロセス | 二重通過逆浸透膜 + EDI | コアコンポーネント | RO膜モジュール、EDIユニット |
| 動作モード | 十分に自動化される | 製品の特徴 | 安定した水質の出力,低運用コスト |
| アフターサービス | 24時間365日のテクニカルサポート、2年間のメンテナンス | トー・コ | <0.5 ppb |
| ハイライト | 7トン/h超純水処理,省エネ超純水処理,省エネ純水処理プラント |
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製品の説明
I.概要
超純水 (UPW) は,ウエファー製造におけるプロセス純度を維持するための重要な媒介です.その質は,チップの出力と性能に直接影響します.ワイファー製造の"目に見えない生命線"になります.
II.プロセス
Raw Water → Raw Water Pressure Pump → Multimedia Filter → Activated Carbon Filter → Water Softener → Precision Filter → Primary RO → pH Adjustment → Intermediate Water Tank → Secondary RO → Intermediate Water Tank → Intermediate Water Pump → EDI System → Purified Water Tank → Pure Water Pump → UV Sterilizer → Microporous Filter →Pasteurization → Water Point
III.プロセスの特徴
プロセス全体にわたる化学汚染ゼロ (EDIは酸塩再生を代替する)
濃縮水回帰,水節約 > 30%
双 UV シネージ 制御 TOC/微生物
異なるプロセス要件に合わせて温度分割
IV.パラメータ
| パラメータ | チップグレードの要件 (≤7nm) |
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| 耐性 (25°C) | ≈18.24 MΩ·cm | ||||
| トー・コ | <0.5 ppb | ||||
| 粒子 (>0.05μm) | <0.1粒/ml | ||||
| メタルイオン | <0.1ppt | ||||
| 溶けた酸素 (DO) | < 1 ppb | ||||
| バクテリア | ≤0.01 CFU/ml |
V.主な用途
ウェーファー 清掃
化学機械磨き (CMP)
エッチング と フィルム 堆積
冷却 機能 水
VI.ここは,適切な引金を得るためのガイドラインです
生水/水の源を教えて下さい (水道水,井戸水,海水など)
水分析報告 (TDS,導電性,抵抗性など) を提供する.
必要な生産能力 ((5m3/h,50m3/h,または500m3/h,など)
純粋な水は何のために使われますか (産業,食品,飲料,農業など)
