product details

Created with Pixso. Huis Created with Pixso. Producten Created with Pixso.
Ultrazuivere waterapparatuur
Created with Pixso.

Op Maat Gemaakte 20T/H Industriële Ultra Zuiver Water Apparatuur Voor Lithografie

Op Maat Gemaakte 20T/H Industriële Ultra Zuiver Water Apparatuur Voor Lithografie

Merknaam: HongJie
Modelnummer: HJ-UPWSe50T
Moq: >= 1 set
Prijs: US$44000~US$44500
Betalingsvoorwaarden: L/C,D/P,T/T,Western Union
Leveringsvermogen: > 300 stuks/maand
Gedetailleerde informatie
Plaats van herkomst:
Shenzhen, China
Certificering:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Debiet:
50m³/H (Aanpasbaar)
Waterkwaliteit:
WeerstandΡ≥18,18 MΩ·cm (25°C)
Kernproces:
Omgekeerde osmose + EDI + polijsthars
Belangrijke onderdelen:
RO Membraan Modules, EDI Units
Elektriciteitsvoorziening:
380V/220V
Naverkoopservice:
de garantie van 2 jaar
Operatiemodus:
Volledig automatisch
Productkenmerken:
Stabiele waterkwaliteit, lage exploitatiekosten, betrouwbare prestaties
TOC:
< 0,5 ppb (behoefte aan onderdompeling vloeistof < 1 ppt)
Deeltjes:
>
Verpakking Details:
Export standaard houten behuizing
Markeren:

Ultra Zuiver Water Apparatuur Voor Lithografie

,

20T/H Ultra Zuiver Water Apparatuur

,

Op Maat Gemaakte ultra zuiver water machine

Productbeschrijving

I. Overzicht
Ultra-zuiver water speelt een onmisbare en cruciaal belangrijke rol in het lithografieproces. Lithografie is een van de meest essentiële stappen in de halfgeleiderfabricage, en lithografie-kwaliteit ultra-zuiver water dient als de fundamentele garantie voor de voortdurende evolutie van “Moore's Law,” waarbij de eisen voor reinheid en chemische zuiverheid bijna stringent zijn. Ultra-zuiver water (UPW), met zijn extreem lage onzuiverheidsgehalte, is het ideale medium om aan deze strenge eisen te voldoen. De ultieme zuiverheid ervan is de fundamentele garantie voor het waarborgen van precieze, defectvrije lithografiepatronen en hoge opbrengstpercentages.

 

II. Proces
Ruw water → Meerfasige filtratie → Omgekeerde osmose (RO) → Electrodeïonisatie (EDI) → UV-ozon synergistische oxidatie → Membraanontgassing → Dubbele fase gemengd-bed polijsten → Terminale filtratie → Stikstof-verzegelde watertank

 

III. Parameters

Parameter Vereiste waarde
Resistiviteit ≥18.18 MΩ·cm (25°C)
Totaal Organisch Koolstof (TOC) <0.5 ppb (Vereiste voor immersievloeistof <1 ppt)
Deeltjesmaterie >0.05μm deeltjes <1 per mL
Opgeloste Zuurstof (DO) <5 ppb
Bacteriële Inhoud <0.01 CFU/mL
Siliciumdioxide (SiO₂) <1 ppb
Borium/Natrium Ionen <10 ppt

 

IV. Toepassingsscenario's
Wafelreiniging
Wassen na ontwikkeling
Verdunnen en bereiden van fotolak/chemicaliën
Reiniging van apparatuur en componenten

 

V. Hier is een richtlijn om een ​​goede offerte te krijgen
Vertel ons het ruwe water/de waterbron (kraanwater, putwater of zeewater, enz.)
Verstrek een wateranalyse rapport (TDS, geleidbaarheid of resistiviteit, enz.)
Vereiste productiecapaciteit (5m³/H, 50m³/H of 500m³/H, enz.)
Waar wordt het zuivere water voor gebruikt (industrieel, voedsel en drank, of landbouw, enz.)