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Energieeffiziente 7 t/h Ultrareine Wasseraufbereitungsanlage zur Waferherstellung
| Herkunftsort | Guangdong, China |
|---|---|
| Markenname | HongJie |
| Zertifizierung | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
| Min Bestellmenge | >=1Sets |
| Preis | US$20500~US$21000 |
| Verpackung Informationen | Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard |
| Lieferzeit | 1-7 Werktage (abhängig von der Lagerhaltung der Rohmaterialien) |
| Zahlungsbedingungen | L/C, D/P, T/T, Western Union |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | > 300 Stück/Monat |
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xProduktdetails
| Flussrate | 7 m³/h (Anpassbar) | Widerstandsfähigkeit (25°C) | ≈ 18,24 MΩ·cm |
|---|---|---|---|
| Kernprozess | Doppel-Pass Umkehrosmose + EDI | Kernkomponenten | RO-Membranmodule, EDI-Einheiten |
| Betriebsmodus | Völlig automatisiert | Produktmerkmale | Stabile Wasserqualität, niedrige Betriebskosten |
| Dienstleistungen nach dem Verkauf | 24/7 technischer Support, 2 Jahre Wartung | Zentrale Position | < 0,5 ppb |
| Hervorheben | 7 t/h Ultrareinwasserbehandlung,Energieeffiziente ultrareine Wasserbehandlung,Energieeffiziente Kläranlage für reines Wasser |
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Produkt-Beschreibung
I.Übersicht
Ultrareines Wasser (UPW) ist ein wichtiges Medium für die Aufrechterhaltung der Prozessreinheit in der Waferherstellung.Damit ist sie die "unsichtbare Lebensader" der Waferherstellung..
II.Verfahren
Raw Water → Raw Water Pressure Pump → Multimedia Filter → Activated Carbon Filter → Water Softener → Precision Filter → Primary RO → pH Adjustment → Intermediate Water Tank → Secondary RO → Intermediate Water Tank → Intermediate Water Pump → EDI System → Purified Water Tank → Pure Water Pump → UV Sterilizer → Microporous Filter →Pasteurization → Water Point
III.Prozessmerkmale
Null chemische Verschmutzung während des gesamten Prozesses (EDI ersetzt die Säure-Basen-Regeneration)
Konzentriertes Wasserrecycling, Wasserersparnis > 30%
Doppel-UV-synergistische Kontrolle von TOC/Mikroben
Temperaturspaltung für verschiedene Prozessanforderungen
IV.Parameter
| Parameter | Anforderungen an die Chipqualität (≤ 7 nm) |
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| Widerstandsfähigkeit (25°C) | ≈ 18,24 MΩ·cm | ||||
| Zentrale Position | < 0,5 ppb | ||||
| Partikel (> 0,05 μm) | < 0,1 Partikel/ml | ||||
| Metallionen | < 0,1 ppt | ||||
| Aufgelöster Sauerstoff (DO) | < 1 ppb | ||||
| Bakterien | ≤ 0,01 CFU/ml |
V.Hauptanwendungen
Waferreinigung
Chemische mechanische Polierung (CMP)
Ätzen und Filmdeposition
Kühl- und Funktionswasser
VI.Hier ist eine Anleitung, wie Sie ein ordnungsgemäßes Angebot erhalten
Sagen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle ((Kranwasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.))
Bereitstellung eines Wasseranalyseberichts (TDS, Leitfähigkeit oder Widerstandsfähigkeit usw.)
Erforderliche Produktionskapazität ((5m3/h, 50m3/h oder 500m3/h usw.)
Was ist das reine Wasser für ((Industrie, Lebensmittel und Getränke, oder Landwirtschaft, etc.)
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