Einzelheiten zu den Produkten

Created with Pixso. Haus Created with Pixso. Produits Created with Pixso.
Ausrüstung für Ultrareinwasser
Created with Pixso.

Energieeffiziente 7 t/h Ultrareine Wasseraufbereitungsanlage zur Waferherstellung

Energieeffiziente 7 t/h Ultrareine Wasseraufbereitungsanlage zur Waferherstellung

Markenname: HongJie
MOQ: >=1Sets
Preis: US$20500~US$21000
Zahlungsbedingungen: L/C, D/P, T/T, Western Union
Versorgungsfähigkeit: > 300 Stück/Monat
Detailinformationen
Herkunftsort:
Guangdong, China
Zertifizierung:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Flussrate:
7 m³/h (Anpassbar)
Widerstandsfähigkeit (25°C):
≈ 18,24 MΩ·cm
Kernprozess:
Doppel-Pass Umkehrosmose + EDI
Kernkomponenten:
RO-Membranmodule, EDI-Einheiten
Betriebsmodus:
Völlig automatisiert
Produktmerkmale:
Stabile Wasserqualität, niedrige Betriebskosten
Dienstleistungen nach dem Verkauf:
24/7 technischer Support, 2 Jahre Wartung
Zentrale Position:
< 0,5 ppb
Verpackung Informationen:
Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard
Hervorheben:

7 t/h Ultrareinwasserbehandlung

,

Energieeffiziente ultrareine Wasserbehandlung

,

Energieeffiziente Kläranlage für reines Wasser

Produktbeschreibung

I.Übersicht
Ultrareines Wasser (UPW) ist ein wichtiges Medium für die Aufrechterhaltung der Prozessreinheit in der Waferherstellung.Damit ist sie die "unsichtbare Lebensader" der Waferherstellung..

 

II.Verfahren
Raw Water → Raw Water Pressure Pump → Multimedia Filter → Activated Carbon Filter → Water Softener → Precision Filter → Primary RO → pH Adjustment → Intermediate Water Tank → Secondary RO → Intermediate Water Tank → Intermediate Water Pump → EDI System → Purified Water Tank → Pure Water Pump → UV Sterilizer → Microporous Filter →Pasteurization → Water Point

 

III.Prozessmerkmale
Null chemische Verschmutzung während des gesamten Prozesses (EDI ersetzt die Säure-Basen-Regeneration)
Konzentriertes Wasserrecycling, Wasserersparnis > 30%
Doppel-UV-synergistische Kontrolle von TOC/Mikroben
Temperaturspaltung für verschiedene Prozessanforderungen

 

IV.Parameter

Parameter Anforderungen an die Chipqualität
 (≤ 7 nm)
Widerstandsfähigkeit (25°C) ≈ 18,24 MΩ·cm
Zentrale Position < 0,5 ppb
Partikel (> 0,05 μm) < 0,1 Partikel/ml
Metallionen < 0,1 ppt
Aufgelöster Sauerstoff (DO) < 1 ppb
Bakterien ≤ 0,01 CFU/ml

 

V.Hauptanwendungen
Waferreinigung
Chemische mechanische Polierung (CMP)
Ätzen und Filmdeposition
Kühl- und Funktionswasser

 

VI.Hier ist eine Anleitung, wie Sie ein ordnungsgemäßes Angebot erhalten
Sagen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle ((Kranwasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.))
Bereitstellung eines Wasseranalyseberichts (TDS, Leitfähigkeit oder Widerstandsfähigkeit usw.)
Erforderliche Produktionskapazität ((5m3/h, 50m3/h oder 500m3/h usw.)
Was ist das reine Wasser für ((Industrie, Lebensmittel und Getränke, oder Landwirtschaft, etc.)