product details

Created with Pixso. Huis Created with Pixso. Producten Created with Pixso.
Ultrazuivere waterapparatuur
Created with Pixso.

Energiezuinige 7 ton/uur Ultra-zuiver Water Behandelingsinstallatie voor Wafelproductie

Energiezuinige 7 ton/uur Ultra-zuiver Water Behandelingsinstallatie voor Wafelproductie

Merknaam: HongJie
Moq: >= 1 set
Prijs: US$20500~US$21000
Betalingsvoorwaarden: L/C,D/P,T/T,Western Union
Leveringsvermogen: > 300 stuks/maand
Gedetailleerde informatie
Plaats van herkomst:
Guangdong, China
Certificering:
ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Debiet:
7m3/h (aanpasbaar)
Weerstand (25°C):
≈ 18,24 MΩ·cm
Kernproces:
Dubbelgang omgekeerde osmose + EDI
Kerncomponenten:
RO Membraan Modules, EDI Units
Operatiemodus:
Volledig Geautomatiseerd
Productkenmerken:
Stabiele waterkwaliteit, lage exploitatiekosten
Naverkoopservice:
24/7 technische ondersteuning, 2 jaar onderhoud
TOC:
< 0,5 ppb
Verpakking Details:
Export standaard houten behuizing
Markeren:

7 ton/uur Ultra-zuiver Water Behandeling

,

Energiezuinige Ultra-zuiver Water Behandeling

,

Energiezuinige zuiver water behandelingsinstallatie

Productbeschrijving

I. Overzicht
Ultra-zuiver water (UPW) is een essentieel medium voor het handhaven van proceszuiverheid in de waferfabricage. De kwaliteit ervan heeft directe invloed op de chipopbrengst en -prestaties, waardoor het de “onzichtbare levensader” van de waferfabricage is.

 

II. Proces
Ruw Water → Drukpomp voor Ruw Water → Multimediafilter → Actieve Koolfilter → Waterontharder → Precisiefilter → Primaire RO (Omgekeerde Osmose) → pH-aanpassing → Tussenwatertank → Secundaire RO → Tussenwatertank → Tussenwaterpomp → EDI-systeem → Gezuiverde Watertank → Zuiver Waterpomp → UV-sterilisator → Microporeus Filter → Pasteurisatie → Waterpunt

 

III. Proceskenmerken
Geen chemische vervuiling gedurende het gehele proces (EDI vervangt zuur-base regeneratie)
Recycling van geconcentreerd water, waterbesparing > 30%
Dubbele UV-synergistische controle van TOC/microben
Temperatuursplitsing om aan verschillende procesvereisten te voldoen

 

IV. Parameters

Parameter Chipkwaliteitseis
 (≤7nm)
Weerstand (25°C) ≈18.24 MΩ·cm
TOC < 0.5 ppb
Deeltjes (> 0.05μm) < 0.1 deeltje/ml
Metaalionen < 0.1 ppt
Opgeloste Zuurstof (DO) < 1 ppb
Bacteriën ≤0.01 KVE/ml

 

V. Belangrijkste Toepassingen
Waferreiniging
Chemisch-Mechanisch Polijsten (CMP)
Etsen en Film Deposition
Koel- en Functioneel Water

 

VI. Hier is een richtlijn om een ​​juiste offerte te krijgen
Vertel ons het ruwe water/de waterbron (kraanwater, putwater of zeewater, enz.)
Verstrek een wateranalyse rapport (TDS, geleidbaarheid of weerstand, enz.)
Vereiste productiecapaciteit (5m³/H, 50m³/H of 500m³/H, enz.)
Waar wordt het zuivere water voor gebruikt (industrieel, voedsel en drank of landbouw, enz.)