Người liên hệ : Eric
Số điện thoại : +86 18038000078
WhatsApp : +8618038000078

Thiết bị nước siêu tinh khiết công nghiệp 20T / H

Nguồn gốc Thâm Quyến, Trung Quốc
Hàng hiệu HongJie
Chứng nhận ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Số mô hình HJ-UPWSE50T
Số lượng đặt hàng tối thiểu > = 1Sets
Giá bán US$44000~US$44500
chi tiết đóng gói Vỏ gỗ tiêu chuẩn xuất khẩu
Thời gian giao hàng 1-7 ngày làm việc (tùy thuộc vào việc dự trữ nguyên vật liệu)
Điều khoản thanh toán L/C, D/P, T/T, Western Union
Khả năng cung cấp > 300 lần/tháng

Liên hệ với tôi để lấy mẫu miễn phí và phiếu giảm giá.

WhatsApp:0086 18588475571

WeChat: 0086 18588475571

Skype: sales10@aixton.com

Nếu bạn có bất kỳ mối quan tâm nào, chúng tôi cung cấp hỗ trợ trực tuyến 24 giờ.

x
Thông tin chi tiết sản phẩm
Tỷ lệ dòng chảy 50m³/h (có thể tùy chỉnh) chất lượng nước Điện trở suất 18,18 MΩ · cm (25 ° C)
Quá trình cốt lõi Thẩm thấu ngược + EDI + nhựa đánh bóng Thành phần chính Các mô -đun màng RO, đơn vị EDI
Cung cấp điện 380V/220V Dịch vụ sau bán hàng Bảo hành 2 năm
Chế độ hoạt động hoàn toàn tự động Tính năng sản phẩm Chất lượng nước ổn định, chi phí hoạt động thấp, hiệu suất đáng tin cậy
TOC <0,5 ppb (Yêu cầu chất lỏng ngâm <1 ppt) Chất dạng hạt > 0,05μm hạt <1 mỗi ml
Làm nổi bật

Thiết bị nước siêu tinh khiết cho lithography

,

Thiết bị nước siêu tinh khiết 20T/H

,

Máy nước siêu tinh khiết

Để lại lời nhắn
Mô tả sản phẩm

I.Tổng quan
Nước siêu tinh khiết đóng một vai trò không thể thiếu và rất quan trọng trong quá trình lithography. Lithography là một trong những bước cốt lõi trong sản xuất bán dẫn,và nước siêu tinh khiết chất lượng lithography phục vụ như là sự đảm bảo cơ bản cho sự phát triển tiếp tục của Luật Moore), với các yêu cầu về độ sạch và độ tinh khiết hóa học đạt đến một mức độ gần như nghiêm ngặt.là phương tiện lý tưởng để đáp ứng các yêu cầu nghiêm ngặt nàyĐộ tinh khiết tối thượng của nó là sự đảm bảo cơ bản để đảm bảo các mẫu lithography chính xác, không có lỗi và tỷ lệ sản lượng cao.

 

II.Việc xử lý
Raw water → Multi-stage filtration → Reverse osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → UV-ozone synergistic oxidation → Membrane degassing → Dual-stage mixed-bed polishing → Terminal filtration → Nitrogen-sealed water tank

 

III.Các thông số

Parameter Giá trị yêu cầu
Kháng chất ≥ 18,18 MΩ·cm (25°C)
Tổng lượng carbon hữu cơ (TOC) < 0,5 ppb (nhu cầu chất lỏng ngâm < 1 ppt)
Chất hạt Các hạt > 0,05μm < 1 trên mL
Oxy hòa tan (DO) < 5 ppb
Hàm lượng vi khuẩn < 0,01 CFU/mL
Silicon Dioxide (SiO2) < 1 ppb
Boron/Sodium Ions <10 ppt

 

IV.Các kịch bản ứng dụng
Làm sạch wafer
Rửa sau khi phát triển
Phân phối và chuẩn bị các chất chống quang / hóa chất
Làm sạch thiết bị và thành phần

 

V. Đây là một hướng dẫn cho bạn để có được một báo giá thích hợp
Cho chúng tôi biết nước thô / nguồn nước ((nước vòi, nước giếng, hoặc nước biển, vv)
Cung cấp báo cáo phân tích nước ((TDS, độ dẫn điện hoặc điện trở, vv)
Công suất sản xuất cần thiết ((5m3/h, 50m3/h, hoặc 500m3/h, v.v.)
Nước tinh khiết được sử dụng cho (( công nghiệp, Thực phẩm và đồ uống, hoặc nông nghiệp, vv)