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Sistema de Tratamento de Água Personalizado 30 toneladas/h para Água Ultra Pura para Fluido de Polimento CMP

  • Custom Water Treatment 30tons/h Ultra Pure Water System For CMP Polishing Fluid
  • Custom Water Treatment 30tons/h Ultra Pure Water System For CMP Polishing Fluid
Lugar de origem Shenzhen, China
Marca HongJie
Certificação ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Quantidade de ordem mínima 1 conjunto
Preço US$66200~US$66500
Detalhes da embalagem Caixa de madeira padrão de exportação
Tempo de entrega 1-7 dias úteis (dependem da existência de matérias-primas)
Termos de pagamento L/C,D/P,T/T,Western union
Habilidade da fonte >300 conjuntos/mês

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Detalhes do produto
Taxa de Fluxo 30T/H ((Poder ser personalizado) Qualidade da água Resistividade ≥ ≥ 18,2 MΩ·cm (25°C)
TOC ≤ 1 ppb Partículas ≤5 partículas/mL (≥0,05μm)
Processos essenciais Osmose inversa de dupla passagem + EDI + resina de polimento Modo de funcionamento Totalmente automático
Fornecimento de eletricidade 380 V/220 V Características do produto Qualidade estável da água, baixo custo de exploração, desempenho fiável
Destacar

Equipamento industrial de água ultra pura

,

Sistemas de água ultra pura personalizáveis
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Descrição de produto

I. Visão Geral
A água ultra pura é um componente central indispensável em soluções de polimento por polimento químico-mecânico (CMP), com sua pureza determinando diretamente o desempenho da solução de polimento e o rendimento do chip. Na fabricação de semicondutores, as soluções de polimento CMP devem atender aos requisitos de planificação em nível nanométrico, e a água ultra pura desempenha um papel crítico e atende aos rigorosos requisitos técnicos nesta aplicação. 
Em soluções de polimento CMP, a água ultra pura não é apenas um solvente, mas também um componente ativo que determina a uniformidade do polimento, as taxas de defeito e a confiabilidade do chip. Um sistema de água ultra pura em conformidade com o padrão SEMI F63-1109 é a pedra angular para alcançar uma taxa de rendimento superior a 95% em processos avançados (7nm e abaixo).


II. Processo Padrão
Água da Torneira Municipal → Pré-tratamento (Filtração Multi-mídia) → Adsorção de Carvão Ativado (Remoção de Cloro Residual) → RO de Dois estágios → EDI (Eletrodeionização) Deionização Contínua → Polimento de Leito Misturado → UV 185/254nm → Ultrafiltração de 0,05μm → Membrana de Degasagem → Tanque de Armazenamento Selado com Nitrogênio → Tubulação de Aço Inoxidável 316L → Linha de Produção de Suspensão CMP


III. Parâmetros

Parâmetros Requisitos
Resistividade ≥18.2 MΩ·cm (25°C)
TOC ≤1 ppb
Partículas ≤5 partículas/mL (≥0,05μm)
Oxigênio Dissolvido ≤10 ppb
Íons Metálicos Na⁺/K⁺ < 0,01 ppb
Fe/Cu/Al < 0,005 ppb
Ânions Cl⁻/SO₄²⁻ < 0,02 ppb
Microorganismos < 0,1 UFC/mL


IV. As funções principais da água ultra pura no fluido de polimento CMP
Transportador de solvente
Meio de reação
Controle de contaminantes


V. Aqui está um guia para você obter uma cotação adequada
Informe-nos a água bruta/fonte de água (água da torneira, água de poço ou água do mar, etc.)
Forneça o relatório de análise da água (TDS, condutividade ou resistividade, etc.)
Capacidade de produção necessária (5m³/H, 50m³/H ou 500m³/H, etc.)
Para que a água pura é usada (industrial, alimentos e bebidas ou agricultura, etc.)


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Equipamento de água ultrapura

Sistema de tratamento de água pura

Sistema de água purificada