Sistema de Tratamento de Água Personalizado 30 toneladas/h para Água Ultra Pura para Fluido de Polimento CMP

I. Visão Geral
A água ultra pura é um componente central indispensável em soluções de polimento por polimento químico-mecânico (CMP), com sua pureza determinando diretamente o desempenho da solução de polimento e o rendimento do chip. Na fabricação de semicondutores, as soluções de polimento CMP devem atender aos requisitos de planificação em nível nanométrico, e a água ultra pura desempenha um papel crítico e atende aos rigorosos requisitos técnicos nesta aplicação. 
Em soluções de polimento CMP, a água ultra pura não é apenas um solvente, mas também um componente ativo que determina a uniformidade do polimento, as taxas de defeito e a confiabilidade do chip. Um sistema de água ultra pura em conformidade com o padrão SEMI F63-1109 é a pedra angular para alcançar uma taxa de rendimento superior a 95% em processos avançados (7nm e abaixo).

II. Processo Padrão
Água da Torneira Municipal → Pré-tratamento (Filtração Multi-mídia) → Adsorção de Carvão Ativado (Remoção de Cloro Residual) → RO de Dois estágios → EDI (Eletrodeionização) Deionização Contínua → Polimento de Leito Misturado → UV 185/254nm → Ultrafiltração de 0,05μm → Membrana de Degasagem → Tanque de Armazenamento Selado com Nitrogênio → Tubulação de Aço Inoxidável 316L → Linha de Produção de Suspensão CMP

III. Parâmetros

IV. As funções principais da água ultra pura no fluido de polimento CMP
Transportador de solvente
Meio de reação
Controle de contaminantes

V. Aqui está um guia para você obter uma cotação adequada
Informe-nos a água bruta/fonte de água (água da torneira, água de poço ou água do mar, etc.)
Forneça o relatório de análise da água (TDS, condutividade ou resistividade, etc.)
Capacidade de produção necessária (5m³/H, 50m³/H ou 500m³/H, etc.)
Para que a água pura é usada (industrial, alimentos e bebidas ou agricultura, etc.)