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Accessori per apparecchiature di trattamento delle acque
Sistema di trattamento dell'acqua personalizzato da 30 tonnellate/ora per acqua ultra pura per fluido di lucidatura CMP
Luogo di origine | Shenzhen, Cina |
---|---|
Marca | HongJie |
Certificazione | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
Quantità di ordine minimo | 1 set |
Prezzo | US$66200~US$66500 |
Imballaggi particolari | Cassa in legno standard di esportazione |
Tempi di consegna | 1-7 giorni lavorativi (dipende dalla disponibilità di materie prime) |
Termini di pagamento | L/C,D/P,T/T,Western union |
Capacità di alimentazione | > 300 serie/mese |

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xPortata | 30T/H (Personalizzabile) | Qualità dell'acqua | Resistività ≥≥18.2 MΩ·cm (25°C) |
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TOC | ≤ 1 ppb | Particolato | ≤ 5 particelle/mL (≥ 0,05 μm) |
Processo di base | Osmosi inversa a doppio passaggio + EDI + resina di lucidatura | Modalità di funzionamento | Completamente automatico |
Alimentazione elettrica | 380V/220V | Caratteristiche del prodotto | Qualità dell'acqua stabile,bassi costi operativi, prestazioni affidabili |
Evidenziare | Apparecchiature industriali per acqua ultra pura,Sistemi di acqua ultrapura personalizzabili |
I.Visualizzazione
L'acqua ultrapura è un componente fondamentale indispensabile nelle soluzioni di lucidatura per lucidatura meccanica chimica (CMP),con una purezza che determina direttamente le prestazioni della soluzione di lucidatura e il rendimento delle truciole- nella produzione di semiconduttori, le soluzioni di lucidatura CMP devono soddisfare i requisiti di planarizzazione a livello nanometrico,e acqua ultrapura svolgono un ruolo critico e soddisfano requisiti tecnici rigorosi in questa applicazione.
Nelle soluzioni di lucidatura CMP, l'acqua ultrapura non è solo un solvente, ma anche un componente attivo che determina l'uniformità della lucidatura, i tassi di difetti e l'affidabilità del chip.Un sistema di acqua ultrapura conforme alla norma SEMI F63-1109 è la pietra angolare per raggiungere un rendimento superiore al 95% nei processi avanzati (7 nm e meno).
II.Processo standard
Municipal Tap Water → Pretreatment (Multi - media Filtration) → Activated Carbon Adsorption (Residual Chlorine Removal) → Two - stage RO → EDI (Electrodeionization) Continuous Deionization → Mixed Bed Polishing → 185/254nm UV→ 0.05μm Ultrafiltrazione → Membrana di disgasamento → Azoto - Serbatoio di stoccaggio sigillato → Tubi in acciaio inossidabile 316L → Linea di produzione di fanghi CMP
III.Parametri
Parametri | Requisiti | |||
Resistenza | ≥ 18,2 MΩ·cm (25°C) | |||
TOC | ≤ 1 ppb | |||
Particelle | ≤ 5 particelle/mL (≥ 0,05 μm) | |||
Ossigeno disciolto | ≤ 10 ppb | |||
Ioni metallici | Na+/K+ < 0,01 ppb | |||
Fe/Cu/Al < 0,005 ppb | ||||
Anioni | Cl−/SO42− < 0,02 ppb | |||
Microorganismi | < 0,1 CFU/ ml |
IV.Le funzioni fondamentali dell'acqua ultrapura nel fluido di lucidatura CMP
Portatore di solvente
Medio di reazione
Controllo dei contaminanti
V. Ecco una guida per ottenere un preventivo adeguato
Ci dica l'acqua grezza/la fonte di acqua ((acqua del rubinetto, acqua di pozzo o acqua di mare, ecc.)
Fornire un rapporto di analisi dell'acqua ((TDS, conduttività o resistività, ecc.)
Capacità di produzione richiesta ((5m3/h, 50m3/h, o 500m3/h, ecc.)
A che cosa serve l'acqua pura (industriale, alimentare, agricola, ecc.)