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맞춤형 수처리 30tons/h CMP 롤링 액체에 대한 초순수 시스템
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x제품 상세 정보
| 유동률 | 30T/H (사용자 정의 가능) | 수질 | 저항 ≥18.2 MΩ · cm (25 ° C) |
|---|---|---|---|
| TOC | ≤1 ppb | 입자 | ≤5 입자/ml (≥0.05μm) |
| 핵심프로세스 | 이중 통과 역삼 투 + EDI + 연마 수지 | 조작 모드 | 완전 자동 |
| 전기 공급 | 380V/220V | 제품 특징 | 안정적인 수질, 낮은 작동 비용, 안정적인 성능 |
| 강조하다 | 산업용 초순수장비,사용자 정의 할 수 있는 초순수 시스템 |
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제품 설명
I.전략
초순수 (ultra-pure water) 는 화학기계 닦기 (CMP) 닦기 용액의 필수 핵심 구성 요소입니다.순도가 직접적으로 닦기 용액의 성능과 칩 양산량을 결정하는반도체 제조에서, CMP 롤링 솔루션은 나노미터 수준의 평면화 요구 사항을 충족해야합니다.이 응용 프로그램에서 엄격한 기술적 요구 사항을 충족하고 매우 순수한 물이 중요한 역할을합니다..
CMP 롤링 솔루션에서 초순수물은 용매뿐만 아니라 롤링 균일성, 결함 비율 및 칩 신뢰성을 결정하는 활성 구성 요소입니다.SEMI F63-1109 표준에 맞는 초순수 시스템 (ultra-pure water system) 은 고급 공정 (7nm 이하) 에서 95% 이상의 양률을 달성하는 초석입니다..
II.표준 절차
Municipal Tap Water → Pretreatment (Multi - media Filtration) → Activated Carbon Adsorption (Residual Chlorine Removal) → Two - stage RO → EDI (Electrodeionization) Continuous Deionization → Mixed Bed Polishing → 185/254nm UV→ 0.05μm 초필트레이션 → 탈가스막 → 질소 - 밀폐된 저장 탱크 → 316L 스테인리스 스틸 파이프 → CMP 슬러리 생산 라인
III.변수
| 매개 변수 | 요구 사항 | |||
| 저항성 | ≥18.2 MΩ·cm (25°C) | |||
| TOC | ≤1ppb | |||
| 입자 | ≤5 입자/mL (≥0.05μm) | |||
| 용해된 산소 | ≤10ppb | |||
| 금속 이온 | Na+/K+ < 0.01 ppb | |||
| Fe/Cu/Al < 0.005 ppb | ||||
| 아니온 | Cl−/SO42− < 0.02 ppb | |||
| 미생물 | < 0. 1 CFU/mL | |||
IV.CMP 롤링 액체에서 초순수의 핵심 기능
용매 운반기
반응 매체
오염물질 관리
V. 여기 당신이 제대로 된 인용을 얻을 수 있도록 지침입니다
생수/수의 출처를 알려주세요 ((관수, 우물물, 바다물 등)
수분 분석 보고서를 제공 (TDS, 전도성 또는 저항성 등)
필요한 생산 용량 ((5m3/H, 50m3/H,또는 500m3/H,등)
순수한 물은 어떤 용도로 사용되나요 (산업, 식품 및 음료, 또는 농업 등)
