• Shenzhen HongJie Water Technology Co., Ltd.
    Herr Wieslaw Alex
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  • Shenzhen HongJie Water Technology Co., Ltd.
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  • Shenzhen HongJie Water Technology Co., Ltd.
    - Was ist los?
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Ansprechpartner : Cathy
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Wasserreinigung nach Maßgabe des Herstellers 30 t/h Ultra-reines Wassersystem für CMP-Poliermittel

Herkunftsort Shenzhen, China
Markenname HongJie
Zertifizierung ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Min Bestellmenge 1 Satz
Preis US$66200~US$66500
Verpackung Informationen Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard
Lieferzeit 1-7 Werktage (abhängig von der Lagerhaltung der Rohmaterialien)
Zahlungsbedingungen L/C, D/P, T/T, Western Union
Versorgungsmaterial-Fähigkeit > 300 Stück/Monat

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Produktdetails
Flussrate 30T/H (Anpassbar) Wasserqualität Widerstand ≥≥18,2 MΩ·cm (25°C)
Zentrale Position ≤ 1 ppb Partikel ≤5 Partikel/mL (≥0,05 μm)
Kernprozess Doppelpass-Umkehrosmose + EDI + Polierharz Betriebsmodus Vollautomatik
Elektrizitätsversorgung 380 V/220 V Produktmerkmale Stabile Wasserqualität, geringe Betriebskosten, zuverlässige Leistung
Hervorheben

Industrielle Ultrareinwasser-Ausrüstung

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Anpassbare Ultrareinwasser-Systeme

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Produkt-Beschreibung

I. Überblick
Ultrareines Wasser ist eine unverzichtbare Kernkomponente in chemisch-mechanischen Polierlösungen (CMP), wobei seine Reinheit direkt die Leistung der Polierlösung und die Chipausbeute bestimmt. In der Halbleiterfertigung müssen CMP-Polierlösungen Planarisierungsanforderungen im Nanometerbereich erfüllen, und ultrareines Wasser spielt in dieser Anwendung eine entscheidende Rolle und erfüllt strenge technische Anforderungen. 
In CMP-Polierlösungen ist ultrareines Wasser nicht nur ein Lösungsmittel, sondern auch eine aktive Komponente, die die Poliergleichmäßigkeit, die Fehlerraten und die Zuverlässigkeit der Chips bestimmt. Ein Ultrareinwassersystem, das dem SEMI F63-1109-Standard entspricht, ist der Grundpfeiler für das Erreichen einer Ausbeute von über 95 % in fortschrittlichen Prozessen (7 nm und darunter).


II. Standard  Prozess
Kommunales Leitungswasser → Vorbehandlung (Multi-Medien-Filtration) → Aktivkohleadsorption (Restchlor-Entfernung) → Zweistufige RO → EDI (Elektroentionisierung) Kontinuierliche Deionisierung → Mischbettpolierung → 185/254nm UV → 0,05 μm Ultrafiltration → Entgasungsmembran → Stickstoffversiegelter Lagertank → 316L Edelstahlrohrleitungen → CMP-Schlamm-Produktionslinie


III. Parameter

Parameter Anforderungen
Spezifischer Widerstand ≥18,2 MΩ·cm (25°C)
TOC ≤1 ppb
Partikel ≤5 Partikel/ml (≥0,05μm)
Gelöster Sauerstoff ≤10 ppb
Metallionen Na⁺/K⁺ < 0,01 ppb
Fe/Cu/Al < 0,005 ppb
Anionen Cl⁻/SO₄²⁻ < 0,02 ppb
Mikroorganismen < 0,1 KBE/ml


IV. Die Kernfunktionen von Reinstwasser in CMP-Polierflüssigkeit
Lösungsmittelträger
Reaktionsmedium
Kontaminationskontrolle


V. Hier ist eine Richtlinie, um ein passendes Angebot zu erhalten
Teilen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle mit (Leitungswasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.)
Stellen Sie einen Wasseranalysebericht bereit (TDS, Leitfähigkeit oder spezifischer Widerstand usw.)
Erforderliche Produktionskapazität (5 m³/h, 50 m³/h oder 500 m³/h usw.)
Wofür wird das Reinwasser verwendet (Industrie, Lebensmittel und Getränke oder Landwirtschaft usw.)