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Wasserreinigung nach Maßgabe des Herstellers 30 t/h Ultra-reines Wassersystem für CMP-Poliermittel
| Herkunftsort | Shenzhen, China |
|---|---|
| Markenname | HongJie |
| Zertifizierung | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
| Min Bestellmenge | 1 Satz |
| Preis | US$66200~US$66500 |
| Verpackung Informationen | Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard |
| Lieferzeit | 1-7 Werktage (abhängig von der Lagerhaltung der Rohmaterialien) |
| Zahlungsbedingungen | L/C, D/P, T/T, Western Union |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | > 300 Stück/Monat |
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xProduktdetails
| Flussrate | 30T/H (Anpassbar) | Wasserqualität | Widerstand ≥≥18,2 MΩ·cm (25°C) |
|---|---|---|---|
| Zentrale Position | ≤ 1 ppb | Partikel | ≤5 Partikel/mL (≥0,05 μm) |
| Kernprozess | Doppelpass-Umkehrosmose + EDI + Polierharz | Betriebsmodus | Vollautomatik |
| Elektrizitätsversorgung | 380 V/220 V | Produktmerkmale | Stabile Wasserqualität, geringe Betriebskosten, zuverlässige Leistung |
| Hervorheben | Industrielle Ultrareinwasser-Ausrüstung,Anpassbare Ultrareinwasser-Systeme |
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Produkt-Beschreibung
I. Überblick
Ultrareines Wasser ist eine unverzichtbare Kernkomponente in chemisch-mechanischen Polierlösungen (CMP), wobei seine Reinheit direkt die Leistung der Polierlösung und die Chipausbeute bestimmt. In der Halbleiterfertigung müssen CMP-Polierlösungen Planarisierungsanforderungen im Nanometerbereich erfüllen, und ultrareines Wasser spielt in dieser Anwendung eine entscheidende Rolle und erfüllt strenge technische Anforderungen.
In CMP-Polierlösungen ist ultrareines Wasser nicht nur ein Lösungsmittel, sondern auch eine aktive Komponente, die die Poliergleichmäßigkeit, die Fehlerraten und die Zuverlässigkeit der Chips bestimmt. Ein Ultrareinwassersystem, das dem SEMI F63-1109-Standard entspricht, ist der Grundpfeiler für das Erreichen einer Ausbeute von über 95 % in fortschrittlichen Prozessen (7 nm und darunter).
II. Standard Prozess
Kommunales Leitungswasser → Vorbehandlung (Multi-Medien-Filtration) → Aktivkohleadsorption (Restchlor-Entfernung) → Zweistufige RO → EDI (Elektroentionisierung) Kontinuierliche Deionisierung → Mischbettpolierung → 185/254nm UV → 0,05 μm Ultrafiltration → Entgasungsmembran → Stickstoffversiegelter Lagertank → 316L Edelstahlrohrleitungen → CMP-Schlamm-Produktionslinie
III. Parameter
| Parameter | Anforderungen | |||
| Spezifischer Widerstand | ≥18,2 MΩ·cm (25°C) | |||
| TOC | ≤1 ppb | |||
| Partikel | ≤5 Partikel/ml (≥0,05μm) | |||
| Gelöster Sauerstoff | ≤10 ppb | |||
| Metallionen | Na⁺/K⁺ < 0,01 ppb | |||
| Fe/Cu/Al < 0,005 ppb | ||||
| Anionen | Cl⁻/SO₄²⁻ < 0,02 ppb | |||
| Mikroorganismen | < 0,1 KBE/ml | |||
IV. Die Kernfunktionen von Reinstwasser in CMP-Polierflüssigkeit
Lösungsmittelträger
Reaktionsmedium
Kontaminationskontrolle
V. Hier ist eine Richtlinie, um ein passendes Angebot zu erhalten
Teilen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle mit (Leitungswasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.)
Stellen Sie einen Wasseranalysebericht bereit (TDS, Leitfähigkeit oder spezifischer Widerstand usw.)
Erforderliche Produktionskapazität (5 m³/h, 50 m³/h oder 500 m³/h usw.)
Wofür wird das Reinwasser verwendet (Industrie, Lebensmittel und Getränke oder Landwirtschaft usw.)
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