Wasserreinigung nach Maßgabe des Herstellers 30 t/h Ultra-reines Wassersystem für CMP-Poliermittel

I. Überblick
Ultrareines Wasser ist eine unverzichtbare Kernkomponente in chemisch-mechanischen Polierlösungen (CMP), wobei seine Reinheit direkt die Leistung der Polierlösung und die Chipausbeute bestimmt. In der Halbleiterfertigung müssen CMP-Polierlösungen Planarisierungsanforderungen im Nanometerbereich erfüllen, und ultrareines Wasser spielt in dieser Anwendung eine entscheidende Rolle und erfüllt strenge technische Anforderungen. 
In CMP-Polierlösungen ist ultrareines Wasser nicht nur ein Lösungsmittel, sondern auch eine aktive Komponente, die die Poliergleichmäßigkeit, die Fehlerraten und die Zuverlässigkeit der Chips bestimmt. Ein Ultrareinwassersystem, das dem SEMI F63-1109-Standard entspricht, ist der Grundpfeiler für das Erreichen einer Ausbeute von über 95 % in fortschrittlichen Prozessen (7 nm und darunter).

II. Standard  Prozess
Kommunales Leitungswasser → Vorbehandlung (Multi-Medien-Filtration) → Aktivkohleadsorption (Restchlor-Entfernung) → Zweistufige RO → EDI (Elektroentionisierung) Kontinuierliche Deionisierung → Mischbettpolierung → 185/254nm UV → 0,05 μm Ultrafiltration → Entgasungsmembran → Stickstoffversiegelter Lagertank → 316L Edelstahlrohrleitungen → CMP-Schlamm-Produktionslinie

III. Parameter

IV. Die Kernfunktionen von Reinstwasser in CMP-Polierflüssigkeit
Lösungsmittelträger
Reaktionsmedium
Kontaminationskontrolle

V. Hier ist eine Richtlinie, um ein passendes Angebot zu erhalten
Teilen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle mit (Leitungswasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.)
Stellen Sie einen Wasseranalysebericht bereit (TDS, Leitfähigkeit oder spezifischer Widerstand usw.)
Erforderliche Produktionskapazität (5 m³/h, 50 m³/h oder 500 m³/h usw.)
Wofür wird das Reinwasser verwendet (Industrie, Lebensmittel und Getränke oder Landwirtschaft usw.)