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Herr Wieslaw AlexSehr schöne Umkehrosmoseanlage! Der Lieferant bietet einen außergewöhnlichen Service und technische Unterstützung. Perfekter Kauf! -
Herr Ismail HakkiWir arbeiten derzeit mit Shenzhen Hongjie an einem Projekt und können ohne zu zögern sagen, dass sie die besten Wasserfiltersysteme aus China anbieten. Ihre Geräte sind gut konstruiert, zuverlässig und liefern eine konstante Leistung – egal ob für industrielle, kommerzielle oder spezielle Anwendungen. -
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Wasserreinigung nach Maßgabe des Herstellers 30 t/h Ultra-reines Wassersystem für CMP-Poliermittel
| Herkunftsort | Shenzhen, China |
|---|---|
| Markenname | HongJie |
| Zertifizierung | ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA |
| Min Bestellmenge | 1 Satz |
| Preis | US$66200~US$66500 |
| Verpackung Informationen | Holzgehäuse für den Ausfuhrstandard |
| Lieferzeit | 1-7 Werktage (abhängig von der Lagerhaltung der Rohmaterialien) |
| Zahlungsbedingungen | L/C, D/P, T/T, Western Union |
| Versorgungsmaterial-Fähigkeit | > 300 Stück/Monat |
Kontaktieren Sie mich für kostenlose Proben und Gutscheine.
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x| Flussrate | 30T/H (Anpassbar) | Wasserqualität | Widerstand ≥≥18,2 MΩ·cm (25°C) |
|---|---|---|---|
| Zentrale Position | ≤ 1 ppb | Partikel | ≤5 Partikel/mL (≥0,05 μm) |
| Kernprozess | Doppelpass-Umkehrosmose + EDI + Polierharz | Betriebsmodus | Vollautomatik |
| Elektrizitätsversorgung | 380 V/220 V | Produktmerkmale | Stabile Wasserqualität, geringe Betriebskosten, zuverlässige Leistung |
| Hervorheben | Industrielle Ultrareinwasser-Ausrüstung,Anpassbare Ultrareinwasser-Systeme |
||
I. Überblick
Ultrareines Wasser ist eine unverzichtbare Kernkomponente in chemisch-mechanischen Polierlösungen (CMP), wobei seine Reinheit direkt die Leistung der Polierlösung und die Chipausbeute bestimmt. In der Halbleiterfertigung müssen CMP-Polierlösungen Planarisierungsanforderungen im Nanometerbereich erfüllen, und ultrareines Wasser spielt in dieser Anwendung eine entscheidende Rolle und erfüllt strenge technische Anforderungen.
In CMP-Polierlösungen ist ultrareines Wasser nicht nur ein Lösungsmittel, sondern auch eine aktive Komponente, die die Poliergleichmäßigkeit, die Fehlerraten und die Zuverlässigkeit der Chips bestimmt. Ein Ultrareinwassersystem, das dem SEMI F63-1109-Standard entspricht, ist der Grundpfeiler für das Erreichen einer Ausbeute von über 95 % in fortschrittlichen Prozessen (7 nm und darunter).
II. Standard Prozess
Kommunales Leitungswasser → Vorbehandlung (Multi-Medien-Filtration) → Aktivkohleadsorption (Restchlor-Entfernung) → Zweistufige RO → EDI (Elektroentionisierung) Kontinuierliche Deionisierung → Mischbettpolierung → 185/254nm UV → 0,05 μm Ultrafiltration → Entgasungsmembran → Stickstoffversiegelter Lagertank → 316L Edelstahlrohrleitungen → CMP-Schlamm-Produktionslinie
III. Parameter
| Parameter | Anforderungen | |||
| Spezifischer Widerstand | ≥18,2 MΩ·cm (25°C) | |||
| TOC | ≤1 ppb | |||
| Partikel | ≤5 Partikel/ml (≥0,05μm) | |||
| Gelöster Sauerstoff | ≤10 ppb | |||
| Metallionen | Na⁺/K⁺ < 0,01 ppb | |||
| Fe/Cu/Al < 0,005 ppb | ||||
| Anionen | Cl⁻/SO₄²⁻ < 0,02 ppb | |||
| Mikroorganismen | < 0,1 KBE/ml | |||
IV. Die Kernfunktionen von Reinstwasser in CMP-Polierflüssigkeit
Lösungsmittelträger
Reaktionsmedium
Kontaminationskontrolle
V. Hier ist eine Richtlinie, um ein passendes Angebot zu erhalten
Teilen Sie uns das Rohwasser/die Wasserquelle mit (Leitungswasser, Brunnenwasser oder Meerwasser usw.)
Stellen Sie einen Wasseranalysebericht bereit (TDS, Leitfähigkeit oder spezifischer Widerstand usw.)
Erforderliche Produktionskapazität (5 m³/h, 50 m³/h oder 500 m³/h usw.)
Wofür wird das Reinwasser verwendet (Industrie, Lebensmittel und Getränke oder Landwirtschaft usw.)
