Система очистки воды на заказ 30 т/ч сверхчистой воды для полирующей жидкости CMP

I. Обзор
Сверхчистая вода является незаменимым основным компонентом в полировальных растворах для химико-механической полировки (CMP), при этом ее чистота напрямую определяет производительность полировального раствора и выход годных чипов. В производстве полупроводников полировальные растворы CMP должны соответствовать требованиям по планарности нанометрового уровня, и сверхчистая вода играет решающую роль и отвечает строгим техническим требованиям в этом применении. 
В полировальных растворах CMP сверхчистая вода является не только растворителем, но и активным компонентом, который определяет равномерность полировки, уровень дефектов и надежность чипов. Система сверхчистой воды, соответствующая стандарту SEMI F63-1109, является краеугольным камнем для достижения выхода годных изделий более 95% в передовых процессах (7 нм и менее).

II. Стандартный процесс
Водопроводная вода → Предварительная обработка (многослойная фильтрация) → Адсорбция активированным углем (удаление остаточного хлора) → Двухступенчатый обратный осмос → EDI (электродеионизация) непрерывная деионизация → Смешанный слой полировки → УФ 185/254 нм → Ультрафильтрация 0,05 мкм → Мембрана дегазации → Азотный резервуар для хранения → Трубопроводы из нержавеющей стали 316L → Линия производства суспензии CMP

III. Параметры

IV. Основные функции сверхчистой воды в полировальной жидкости CMP
Растворитель-носитель
Реакционная среда
Контроль загрязнений

V. Вот руководство, которое поможет вам получить подходящее предложение
Сообщите нам исходную воду/источник воды (водопроводная вода, вода из скважины или морская вода и т. д.)
Предоставьте отчет об анализе воды (TDS, проводимость или удельное сопротивление и т. д.)
Необходимая производительность (5 м³/ч, 50 м³/ч или 500 м³/ч и т. д.)
Для чего используется чистая вода (промышленность, продукты питания и напитки или сельское хозяйство и т. д.)