Все продукты
Контактное лицо : Eric
Номер телефона : +86 18038000078
whatsapp : +8618038000078

Система очистки воды на заказ 30 т/ч сверхчистой воды для полирующей жидкости CMP

  • Custom Water Treatment 30tons/h Ultra Pure Water System For CMP Polishing Fluid
  • Custom Water Treatment 30tons/h Ultra Pure Water System For CMP Polishing Fluid
Место происхождения Шэньчжэнь, Китай
Фирменное наименование HongJie
Сертификация ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Количество мин заказа 1 комплект
Цена US$66200~US$66500
Упаковывая детали Экспорт стандартный деревянный корпус
Время доставки 1-7 рабочих дней (зависит от запасов сырья)
Условия оплаты L/C, D/P, T/T, Western Union
Поставка способности >300 комплектов/месяц

Свяжитесь со мной для бесплатных образцов и купонов.

whatsapp:0086 18588475571

WeChat: 0086 18588475571

Skype: sales10@aixton.com

Если у вас есть какие-либо проблемы, мы предоставляем круглосуточную онлайн-помощь.

x
Подробная информация о продукте
Степень потока 30 т/ч (Настраиваемый) Качество воды Сопротивление ≥≥18,2 MΩ·cm (25°C)
ПОК ≤ 1 ppb Частицы ≤5 частиц/мл (≥0,05μm)
Основной процесс Двухступенчатый обратный осмос + ЭДИ + Финишная смола Режим работы Полностью автоматический
Электроснабжение 380В/220В Характеристики продукта Стабильное качество воды, низкие эксплуатационные затраты, надежные показатели
Выделить

Промышленное оборудование для сверхчистой воды

,

Настраиваемые системы сверхчистой воды
Оставьте сообщение
Характер продукции

I. Обзор
Сверхчистая вода является незаменимым основным компонентом в полировальных растворах для химико-механической полировки (CMP), при этом ее чистота напрямую определяет производительность полировального раствора и выход годных чипов. В производстве полупроводников полировальные растворы CMP должны соответствовать требованиям по планарности нанометрового уровня, и сверхчистая вода играет решающую роль и отвечает строгим техническим требованиям в этом применении. 
В полировальных растворах CMP сверхчистая вода является не только растворителем, но и активным компонентом, который определяет равномерность полировки, уровень дефектов и надежность чипов. Система сверхчистой воды, соответствующая стандарту SEMI F63-1109, является краеугольным камнем для достижения выхода годных изделий более 95% в передовых процессах (7 нм и менее).


II. Стандартный процесс
Водопроводная вода → Предварительная обработка (многослойная фильтрация) → Адсорбция активированным углем (удаление остаточного хлора) → Двухступенчатый обратный осмос → EDI (электродеионизация) непрерывная деионизация → Смешанный слой полировки → УФ 185/254 нм → Ультрафильтрация 0,05 мкм → Мембрана дегазации → Азотный резервуар для хранения → Трубопроводы из нержавеющей стали 316L → Линия производства суспензии CMP


III. Параметры

Параметры Требования
Удельное сопротивление ≥18,2 MΩ·см (25°C)
TOC (Общий органический углерод) ≤1 ppb
Частицы ≤5 частиц/мл (≥0,05 мкм)
Растворенный кислород ≤10 ppb
Ионы металлов Na⁺/K⁺ < 0,01 ppb
Fe/Cu/Al < 0,005 ppb
Анионы Cl⁻/SO₄²⁻ < 0,02 ppb
Микроорганизмы < 0,1 КОЕ/мл


IV. Основные функции сверхчистой воды в полировальной жидкости CMP
Растворитель-носитель
Реакционная среда
Контроль загрязнений


V. Вот руководство, которое поможет вам получить подходящее предложение
Сообщите нам исходную воду/источник воды (водопроводная вода, вода из скважины или морская вода и т. д.)
Предоставьте отчет об анализе воды (TDS, проводимость или удельное сопротивление и т. д.)
Необходимая производительность (5 м³/ч, 50 м³/ч или 500 м³/ч и т. д.)
Для чего используется чистая вода (промышленность, продукты питания и напитки или сельское хозяйство и т. д.)


Бирки:

Оборудование для сверхчистой воды

Система очистки чистой воды

Система очищенной воды