Kontak Person : Eric
Nomor telepon : +86 18038000078
ApaAPP : +8618038000078

Peralatan Pengolahan Air Ultra Pure 8000gph Untuk Industri Chip Dengan Mesin RO + Unit EDI

Tempat asal Shenzen, Cina
Nama merek HongJie
Sertifikasi ISO 14001,ISO 9001,CE,EPA
Nomor model Hj-upwch30t
Kuantitas min Order > = 1Set
Harga US$66200~US$66500
Kemasan rincian 鎮ㄨ鎵剧殑璧勬簮宸茶鍒犻櫎銆佸凡鏇村悕鎴栨殏鏃朵笉鍙敤銆
Waktu pengiriman 1-7 hari kerja (depand pada stocking bahan baku)
Syarat-syarat pembayaran L/C, D/P, T/T, Western Union
Menyediakan kemampuan > 300Set/bulan

Hubungi saya untuk sampel gratis dan kupon.

ApaAPP:0086 18588475571

Wechat wechat: 0086 18588475571

Skype: sales10@aixton.com

Jika Anda memiliki masalah, kami menyediakan 24 jam bantuan online.

x
Detail produk
Tingkat Aliran 30m³/jam (dapat disesuaikan) Resistivitas (25 ° C) ≥18.2 MΩ · cm (nilai maksimum teoritis air murni)
Proses inti Osmosis terbalik ganda + edi Komponen Inti Modul membran RO, unit EDI
Mode operasi Sepenuhnya otomatis Fitur Produk Output kualitas air yang stabil, biaya operasional yang rendah
Pasokan Listrik 380v TOC ≤5 ppb (beberapa proses lanjutan membutuhkan ≤1 ppb)
Jumlah Partikel Partikel 0,1μm ≤1 partikel/mL; Partikel 0,05μm ≤10 partikel/mL Konsentrasi ion logam Logam kunci (misalnya, Fe, Cu, Na, K) ≤1 ppt
Menyoroti

Peralatan Pengolahan Air Ultra Murni 8000gph

,

Industri Chip Peralatan Pengolahan Air Ultra Murni

,

Pengolahan air ultra murni 8000gph

Tinggalkan pesan
Deskripsi Produk

Pemasok Peralatan Pengolahan Air 8000gph Air Ultrapure Untuk Industri Chip Dengan Mesin RO + Unit EDI

 

I. Ikhtisar
Dalam manufaktur chip (sirkuit terpadu), air ultrapure (UPW) adalah bahan bantu kunci yang sangat diperlukan, sering disebut sebagai “darah kehidupan industri semikonduktor.” Fungsi utamanya adalah untuk menghilangkan jejak kotoran (seperti partikel, ion logam, dan senyawa organik) dari permukaan wafer melalui pembersihan presisi tinggi, pengenceran, atau partisipasi dalam reaksi proses, yang secara langsung berdampak pada hasil chip, kinerja, dan keandalan.

 

II. Proses
1. Proses utama (berlaku untuk node proses 14nm ke atas):
Air Baku → Filtrasi Multi-media → Karbon Aktif → Ultrafiltrasi (UF) → RO Primer → RO Sekunder → EDI → UV (185+254 nm) → Degasifikasi → Tempat Tidur Campuran Pemolesan → Ultrafiltrasi Akhir → Titik Penggunaan (POU)

2. Proses lanjutan (cocok untuk proses lanjutan 7nm ke bawah):
Air baku → Ultrafiltrasi → RO Dua Tahap → Elektro-deionisasi Kontinu (CEDI) → Ultraviolet (185 nm) → Membran Degassing → Tempat Tidur Campuran Pemolesan Tingkat Nuklir → Filtrasi Akhir 0,05μm → Sistem Distribusi Resirkulasi

 

III. Parameter

Kategori Parameter Persyaratan Manufaktur Chip
Resistivitas (25°C) ≥18.2 MΩ·cm (Nilai maksimum teoretis air murni)
Total Organic Carbon (TOC) ≤5 ppb (Beberapa proses lanjutan memerlukan ≤1 ppb)
Jumlah Partikel Partikel 0,1μm ≤1 partikel/mL; Partikel 0,05μm ≤10 partikel/mL
Konsentrasi Ion Logam Logam kunci (misalnya, Fe, Cu, Na, K) ≤1 ppt
Bakteri dan Endotoksin Bakteri ≤1 CFU/100mL; Endotoksin ≤0,03 EU/mL
Gas Terlarut Oksigen terlarut ≤5 ppb; CO₂ ≤1 ppb

 

IV. Skenario Aplikasi Inti
Pembersihan Wafer: Menghilangkan mikro-kontaminan untuk memastikan kinerja perangkat (pembilasan fisik, pembersihan dengan reagen kimia)
Persiapan Cairan Proses: Digunakan sebagai pengencer atau pelarut (pengenceran photoresist, persiapan cairan etsa/cairan pengembang)
Pembersihan Peralatan dan Lingkungan: Mencegah kontaminasi silang (pembersihan peralatan proses, pemeliharaan lingkungan ruang bersih)

 

V. Berikut adalah panduan bagi Anda untuk mendapatkan penawaran yang tepat

Beri tahu kami air baku/sumber air (air keran, air sumur, atau air laut, dll)
Berikan laporan analisis air (TDS, konduktivitas, atau resistivitas, dll)
Kapasitas produksi yang dibutuhkan (5m³/H, 50m³/H, atau 500m³/H, dll)
Untuk apa air murni itu digunakan (industri, Makanan dan Minuman, atau pertanian, dll)