Ultrareine Wasseraufbereitungsanlage 8000gph für die Chipindustrie mit RO-Maschine + EDI-Einheit

Wasserbehandlungsanlagen Lieferanten 8000gph Ultrareinwasser für die Chipindustrie mit RO-Maschine + EDI-Einheit

I.Übersicht
Im Bereich der Chipherstellung (Integrierter Schaltkreis) ist Ultrareinwasser (UPW) ein unverzichtbares Hilfsmaterial, das oft als "Lebensader der Halbleiterindustrie" bezeichnet wird.Die Kernfunktion besteht darin, Spuren von Verunreinigungen (z. B. Partikel) zu entfernen., Metallionen und organischen Verbindungen) aus der Oberfläche der Wafer durch hochpräzise Reinigung, Verdünnung oder Teilnahme an Prozessreaktionen, die sich direkt auf den Chipertrag, die Leistung,und Verlässlichkeit.

II.Verfahren
1.Mainstream-Prozess (gilt für Prozessknoten von 14 nm und höher):
Raw Water → Multi-media Filtration → Activated Carbon → Ultrafiltration (UF) → Primary RO → Secondary RO → EDI → UV (185+254 nm) → Degasification → Polishing Mixed Bed → Final Ultrafiltration → Point of Use (POU)

2.Verstärktes Verfahren (für Verfahren mit einer Breite von 7 nm oder weniger geeignet):
Rohwasser → Ultrafiltration → Doppelstadial-RO → Kontinuierliche Elektro-Deionisierung (CEDI) → Ultraviolett (185 nm) → Membranentgasung → Kernpoliermischtes Bett → 0.05μm Endfiltration → Umlaufverteilungssystem

III.Parameter

IV.Kernanwendungsszenarien
Waferreinigung: Entfernt Mikrokontaminanten, um die Leistungsfähigkeit des Geräts zu gewährleisten (physikalische Spülung, Reinigung mit chemischen Reagenzien)
Prozessflüssigkeitsvorbereitung: Als Verdünnungsmittel oder Lösungsmittel verwendet (Fotoresistenverdünnung, Ätzflüssigkeits-/Entwicklungsflüssigkeitsvorbereitung)
Reinigung von Ausrüstung und Umwelt: Vermeidung von Kreuzkontamination (Reinigung von Prozessgeräten, Pflege der Reinraumumgebung)