Ultrazuivere waterzuiveringsapparatuur 8000 gph voor de chipindustrie met RO-machine + EDI-eenheid

Voorzieners van waterzuiveringsapparatuur 8000gph Ultrazuiver water voor de chipindustrie met RO-machine + EDI-eenheid

I.Overzicht
In de productie van chips (geïntegreerde schakelingen) is ultrazuiver water (UPW) een onmisbaar essentieel hulpmateriaal, vaak aangeduid als de levensader van de halfgeleiderindustrie.De kernfunctie is het verwijderen van sporen van verontreinigingen (zoals deeltjes van, metalen ionen en organische verbindingen) van het oppervlak van wafers door middel van hoogprecisie reiniging, verdunning of deelname aan procesreacties, die rechtstreeks van invloed zijn op chipopbrengst, prestaties,en betrouwbaarheid.

II.Verwerking
1.Mainstream-proces (toepasbaar op procesknopen van 14 nm en hoger):
Raw Water → Multi-media Filtration → Activated Carbon → Ultrafiltration (UF) → Primary RO → Secondary RO → EDI → UV (185+254 nm) → Degasification → Polishing Mixed Bed → Final Ultrafiltration → Point of Use (POU)

2.Geavanceerd proces (geschikt voor geavanceerde processen van 7 nm en lager):
Rauw water → Ultrafiltratie → Dubbelstaps RO → Continu electro-deionisatie (CEDI) → Ultraviolet (185 nm) → Membraan ontgassen → Nuclear-grade Polishing Mixed Bed → 0.05 μm Eindfiltratie → Distributiesysteem voor recirculatie

III.Parameters

IV.Kerntoepassingsscenario's
Waferreiniging: verwijdert micro-verontreinigende stoffen om de prestaties van het apparaat te waarborgen (fysiek spoelen, reinigen met chemische reagentia)
Voorbereiding van procesvloeistoffen: wordt gebruikt als verdunningsmiddel of oplosmiddel (verdunning met fotoresist, etseringsvloeistof/ontwikkelingsvloeistofpreparaat)
Reiniging van apparatuur en milieu: voorkomt kruisbesmetting (reiniging van procesapparatuur, onderhoud van de milieukleuring van een schoonruimte)