Apparecchiature per il trattamento dell'acqua ultrapura 8000gph per l'industria dei chip con macchina ad osmosi inversa + unità EDI

Fornitori di attrezzature per il trattamento dell'acqua 8000gph Acqua ultrapura per l'industria dei chip con macchina RO + unità EDI

I. Panoramica
Nella produzione di chip (circuiti integrati), l'acqua ultrapura (UPW) è un materiale ausiliario chiave indispensabile, spesso definito come il “sangue vitale dell'industria dei semiconduttori.” La sua funzione principale è quella di rimuovere le impurità in tracce (come particelle, ioni metallici e composti organici) dalla superficie dei wafer attraverso la pulizia di alta precisione, la diluizione o la partecipazione alle reazioni di processo, influenzando direttamente la resa, le prestazioni e l'affidabilità dei chip.

II. Processo
1. Processo principale (applicabile a nodi di processo di 14 nm e superiori):
Acqua grezza → Filtrazione multimediale → Carbone attivo → Ultrafiltrazione (UF) → RO primaria → RO secondaria → EDI → UV (185+254 nm) → Degasaggio → Letto misto di lucidatura → Ultrafiltrazione finale → Punto di utilizzo (POU)

2. Processo avanzato (adatto per processi avanzati di 7 nm e inferiori):
Acqua grezza → Ultrafiltrazione → RO a due stadi → Elettrodeionizzazione continua (CEDI) → Ultravioletti (185 nm) → Degasaggio a membrana → Letto misto di lucidatura di grado nucleare → Filtrazione finale da 0,05μm → Sistema di distribuzione a ricircolo

III. Parametri

IV. Scenari applicativi principali
Pulizia dei wafer: Rimuove i micro-contaminanti per garantire le prestazioni del dispositivo (risciacquo fisico, pulizia con reagenti chimici)
Preparazione del fluido di processo: Utilizzato come diluente o solvente (diluizione del fotoresist, preparazione del fluido di incisione/sviluppo)
Pulizia delle apparecchiature e dell'ambiente: Previene la contaminazione incrociata (pulizia delle apparecchiature di processo, manutenzione dell'ambiente della camera bianca)