Equipo de tratamiento de agua ultrapura 8000gph para la industria de chips con máquina de ósmosis inversa + unidad EDI

Equipos de tratamiento de agua 8000gph Agua ultrapura para la industria de chips con máquina de RO + unidad EDI

I.Resumen general
En la fabricación de chips (circuitos integrados), el agua ultrapura (UPW) es un material auxiliar clave indispensable, a menudo referido como el "sangre vital" de la industria de semiconductores.Su función principal es eliminar las pistas de impurezas (como las partículas, iones metálicos y compuestos orgánicos) de la superficie de las obleas mediante una limpieza, dilución o participación en reacciones de proceso de alta precisión, que afectan directamente al rendimiento del chip, el rendimiento,y confiabilidad.

II.Proceso
1Proceso principal (aplicable a nodos de proceso de 14 nm y superiores):
Raw Water → Multi-media Filtration → Activated Carbon → Ultrafiltration (UF) → Primary RO → Secondary RO → EDI → UV (185+254 nm) → Degasification → Polishing Mixed Bed → Final Ultrafiltration → Point of Use (POU)

2Proceso avanzado (apto para procesos avanzados de 7 nm y inferiores):
Agua cruda → Ultrafiltración → RO de doble etapa → Electro-deionización continua (CEDI) → Ultravioleta (185 nm) → Desgasificación por membrana → Cama mixta de pulido de grado nuclear → 0.05μm Sistema de distribución de filtración final → recirculación

III.Parámetros

IV.Escenarios de aplicación básicos
Limpieza de obleas: elimina los microcontaminantes para garantizar el rendimiento del dispositivo (enjuague físico, limpieza con reactivos químicos)
Preparación de fluidos de proceso: Se utiliza como diluyente o disolvente (dilución fotoresista, líquido de grabado/preparación de líquido de desarrollo)
Limpieza del equipo y del medio ambiente: evita la contaminación cruzada (limpieza del equipo de proceso, mantenimiento del ambiente de la sala limpia)